[发明专利]彩色滤光基板及其制备方法、液晶显示面板

权利要求书

1.一种彩色滤光基板，包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的黑色矩阵，所述黑色矩阵间隔出多个子像素区域，每一子像素区域中形成有彩色光阻；其特征在于，所述彩色光阻上设置有平坦化保护层，所述平坦化保护层上凸起地设置有主隔垫物和辅隔垫物，所述主隔垫物和辅隔垫物相对位于所述黑色矩阵的正上方；

其中，所述主隔垫物和辅隔垫物与所述平坦化保护层的材料均为透明光阻材料，所述主隔垫物和辅隔垫物与所述平坦化保护层是一体成型的结构。

2.根据权利要求1所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述主隔垫物从所述平坦化保护层上凸起的高度为5～8μm，所述辅隔垫物从所述平坦化保护层上凸起的高度为3～6μm，所述平坦化保护层的厚度为2～5μm，所述主隔垫物的高度大于所述辅隔垫物的高度。

3.根据权利要求1或2所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述主隔垫物和辅隔垫物的横截面为圆形，纵截面为梯形。

4.根据权利要求1所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述子像素区域被设置为红色子像素、绿色子像素或蓝色子像素，所述红色子像素中的彩色光阻为红色光阻，所述绿色子像素中的彩色光阻为绿色光阻，所述蓝色子像素中的彩色光阻为蓝色光阻。

5.一种彩色滤光基板的制备方法，其特征在于，该方法包括：在具有彩色光阻的衬底基板上，应用一次曝光工艺制备获得一体成型的平坦化保护层、主隔垫物和辅隔垫物；该步骤具体包括：

在具有彩色光阻的衬底基板上形成透明光阻材料层；

提供一光罩，利用所述光罩对所述透明光阻材料层进行曝光；其中，所述光罩包括第一透光区、第二透光区和第三透光区，所述第一透光区的光线透过率大于所述第二透光区的光线透过率，所述第二透光区的光线透过率大于所述第三透光区的光线透过率；

对曝光后的透明光阻材料层进行显影，在对应于所述第三透光区的位置获得所述平坦化保护层，在对应于所述第一透光区的位置获得所述主隔垫物，在对应于所述第二透光区的位置获得所述辅隔垫物。

6.根据权利要求5所述的彩色滤光基板，其特征在于，该方法包括步骤：

S1、提供一衬底基板并清洗所述衬底基板；

S2、在衬底基板上应用一次构图工艺制备获得黑色矩阵；

S3、在所述黑色矩阵上应用多次构图工艺制备获得彩色光阻；

S4、在具有彩色光阻的衬底基板上，应用一次曝光工艺制备获得一体成型的平坦化保护层、主隔垫物和辅隔垫物；其中，所述主隔垫物和辅隔垫物分别相对位于所述黑色矩阵的正上方。

7.根据权利要求6所述的彩色滤光基板的制备方法，其特征在于，所述主隔垫物从所述平坦化保护层上凸起的高度为5～8μm，所述辅隔垫物从所述平坦化保护层上凸起的高度为3～6μm，所述平坦化保护层的厚度为2～5μm，所述主隔垫物的高度大于所述辅隔垫物的高度。

8.根据权利要求6所述的彩色滤光基板的制备方法，其特征在于，步骤S3具体包括：应用三次构图工艺依次制备获得红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻。

9.根据权利要求5-8任一所述的彩色滤光基板的制备方法，其特征在于，所述主隔垫物和辅隔垫物的横截面为圆形，纵截面为梯形。

10.一种液晶显示面板，包括相对设置的彩色滤光基板和薄膜晶体管阵列基板，所述彩色滤光基板和薄膜晶体管阵列基板之间设置有液晶分子，其特征在于，所述彩色滤光基板采用上述权利要求1-4任一所述的彩色滤光基板。