[发明专利]表面量测方法及表面量测系统

权利要求书

1.一种表面量测方法，其特征在于，所述表面量测方法用以量测一待测晶圆的表面，该表面量测方法包含以下步骤：

一表面信息获取步骤：利用一表面量测装置，对该待测晶圆进行表面扫描，以取得该待测晶圆的一表面量测信息，该表面量测信息包含有多个高度数据；

一移动至启始扫描位置步骤：依据其中一个高度数据及一预定偏移量，利用一移动装置控制一白光干涉仪于一纵向方向移动，而使该白光干涉仪包含的一干涉物镜位于一启始扫描位置；其中，该白光干涉仪还包含一微致动单元，该微致动单元能控制该干涉物镜于该纵向方向移动；以及

一影像获取步骤：使该白光干涉仪于该启始扫描位置，利用该微致动单元控制该干涉物镜于该纵向方向移动，以使该白光干涉仪对该待测晶圆进行影像获取作业；

其中，该移动装置的单位移动步距大于该微致动单元的单位移动步距，且该移动装置的移动速度大于该微致动单元的移动速度；

其中，该表面量测装置对该待测晶圆的一位置进行量测以取得该位置对应的高度值的速度，快于仅利用该白光干涉仪对该位置进行量测以取得该位置对应的高度值的速度。

2.根据权利要求1所述的表面量测方法，其特征在于，该表面信息获取步骤与该移动至启始扫描位置步骤之间还包含有一晶圆载运步骤：控制承载该待测晶圆的一承载装置，以使该待测晶圆由邻近该表面量测装置的位置移动至邻近于该白光干涉仪的一预定位置；其中，该承载装置能使该待测晶圆于一平面移动，该纵向方向为该平面的法线方向。

3.根据权利要求2所述的表面量测方法，其特征在于，于该影像获取步骤后还包含有一位置移动步骤：控制该承载装置，以使该待测晶圆由该预定位置移动至另一预定位置；其中，该移动至启始扫描位置步骤、该影像获取步骤及该位置移动步骤将重复执行一预定次数。

4.一种表面量测系统，其特征在于，所述表面量测系统用以执行权利要求2所述的表面量测方法，以对一待测晶圆进行表面量测，所述表面量测系统包含：

该承载装置，其用以承载该待测晶圆，该承载装置能使该待测晶圆于该平面移动；

该表面量测装置，其设置于该承载装置的一侧，该表面量测装置能对该待测晶圆进行表面量测，以对应产生该表面量测信息，该表面量测信息包含有多个该高度数据；

该白光干涉仪，其设置于该承载装置的另一侧，该白光干涉仪包含有该微致动单元及该干涉物镜，该微致动单元能控制该干涉物镜于该纵向方向移动，以对该待测晶圆进行影像获取作业；其中，该纵向方向为该平面的法线方向；以及

该移动装置，其能依据各该高度数据控制该白光干涉仪沿该纵向方向移动，以使该白光干涉仪位于相对应的该启始扫描位置；其中，该移动装置的单位移动步距大于该微致动单元的单位移动步距，且该移动装置的移动速度大于该微致动单元的移动速度；

其中，该白光干涉仪位于该启始扫描位置时，该白光干涉仪能通过该微致动单元及该干涉物镜相互配合，以对该待测晶圆进行影像获取。

5.根据权利要求4所述的表面量测系统，其特征在于，该表面量测系统还包含有一处理装置，该处理装置电性连接该表面量测装置、该承载装置、该移动装置及该白光干涉仪，该处理装置能依据该表面量测信息所包含的所述高度数据及相对应的平面坐标数据，控制该承载装置及该移动装置，而使该白光干涉仪能于该待测晶圆相对应的位置进行影像获取。

6.根据权利要求4所述的表面量测系统，其特征在于，该表面量测系统还包含有一校正装置，其用以校正该表面量测装置、该承载装置、该白光干涉仪及该移动装置彼此间的相对位置。

7.根据权利要求4所述的表面量测系统，其特征在于，该表面量测装置是利用条纹反射法对该待测晶圆进行表面量测；该移动装置能依据各该高度数据及一预定偏移量，对应控制该白光干涉仪沿该纵向方向移动。