[发明专利]基底台系统、光刻设备和光刻方法

权利要求书

1.一种基底台系统，所述基底台系统包括基底曝光工位、基底传输工位和基底测量工位，其特征在于，所述基底台系统还包括：

至少两个微动台，用于承载基底轮流在所述基底传输工位、所述基底测量工位和所述基底曝光工位完成工序；

一转接台，包括所述基底传输工位和所述基底测量工位，所述基底传输工位和所述基底测量工位并列且皆紧邻所述基底曝光工位，任一所述微动台可在所述转接台上移动以完成基底传输和基底测量；

一粗动台，任一所述微动台可在所述转接台与所述粗动台之间进行交换，以完成在所述基底曝光工位与所述基底传输工位间的移动和/或在所述基底测量工位与所述基底曝光工位间的移动。

2.如权利要求1所述的基底台系统，其特征在于，所述基底曝光工位包括工件台本体。

3.如权利要求2所述的基底台系统，其特征在于，还包括驱动装置，固定在所述粗动台和所述微动台以及所述工件台本体上，用于驱动所述粗动台和任一所述微动台。

4.如权利要求3所述的基底台系统，其特征在于，所述驱动装置为驱动电机。

5.如权利要求3所述的基底台系统，其特征在于，用于驱动所述微动台的所述驱动装置，包括固定在所述微动台下方的微动台磁钢阵列和固定在所述粗动台顶部的印制电路板线圈。

6.如权利要求3所述的基底台系统，其特征在于，用于驱动所述粗动台的所述驱动装置，包括固定在所述粗动台下方的粗动台底部磁钢阵列和位于所述工件台本体顶部的印制电路板线圈。

7.如权利要求3所述的基底台系统，其特征在于，所述粗动台和/或所述微动台底部固定有霍尔传感器阵列。

8.如权利要求1所述的基底台系统，其特征在于，所述粗动台和所述微动台上皆安装有传感器，用于使所述微动台跟随所述粗动台运动。

9.如权利要求8所述的基底台系统，其特征在于，所述粗动台侧边安装有若干个差分传感器，所述微动台上安装有零位传感器。

10.如权利要求1所述的基底台系统，其特征在于，还设置边缘对接机构，所述边缘对接机构固定在所述粗动台上，用于与所述转接台对接。

11.如权利要求1所述的基底台系统，其特征在于，还设置干涉仪测量系统和/或平面编码器，用于检测所述粗动台和所述微动台的位置。

12.一种使用如权利要求1～11所述的基底台系统的光刻设备。

13.一种使用如权利要求1～11中任意一项所述的基底台系统的光刻方法，其特征在于，包括:

所述两个微动台分别定义为第一微动台和第二微动台，第一微动台在所述基底传输工位完成所述基底传输，运动至所述基底测量工位进行基底测量，之后由位于转接台上的基底测量工位移动至粗动台上，随所述粗动台运动至基底台系统的基底曝光工位进行曝光，所述基底曝光后随所述微动台至所述基底传输工位进行基底传输，

第二微动台在所述基底传输工位完成所述基底传输，运动至所述基底测量工位进行基底测量，之后由所述转接台上的所述基底测量工位移动至所述粗动台上，随所述粗动台运动至所述基底曝光工位进行曝光，所述基底曝光后由所述粗动台搭载所述微动台至所述转接台的所述基底传输工位进行基底传输，

所述第一微动台和所述第二微动台轮流在所述基底曝光工位、所述基底传输工位和所述基底测量工位之间运动。

14.如权利要求13中所述的光刻方法，其特征在于，所述基底曝光工位、所述基底传输工位和所述基底测量工位上设置位置测量传感装置，所述位置测量传感装置用于测量所述粗动台、所述微动台的位置。

15.如权利要求13中所述的光刻方法，其特征在于，所述第一微动台与所述第二微动台同时进行工作。