[发明专利]激光干涉仪反射镜形貌测量方法和光刻装置

权利要求书

1.一种激光干涉仪反射镜形貌测量方法，所述反射镜用于测定工件台高度，其特征在于，包括以下步骤：

向位于工件台上的基底照射光，使所述基底上产生两个以上的光斑；

将所述工件台保持高度固定并沿同一个方向移动若干次，每次移动时，使得其中一个光斑移动至另一个光斑在移动前的所在位置，记录每次移动前后所述基底上光斑处的垂向高度，通过对所述基底同一位置上在移动前后产生的至少两个光斑处的垂向高度的差值处理，得到移动前后反射镜上对应位置的形貌。

2.如权利要求1所述的激光干涉仪反射镜形貌测量方法，其特征在于，将所述工件台在同一方向上移动若干次，每次移动时，使得其中一个光斑移动至另一个光斑在移动前所在的位置，记录每次移动前后所述基底上所有光斑的垂向高度，所述基底同一位置上在移动前后产生的两个光斑的垂向高度的差值即为所述反射镜上相应的点的高度变化，若干个所述反射镜上的相应的点的高度变化组成了所述反射镜的镜面在该方向上形貌变化。

3.如权利要求1所述的激光干涉仪反射镜形貌测量方法，其特征在于，所述工件台在同一方向上每次移动的距离为1～3毫米。

4.如权利要求1所述的激光干涉仪反射镜形貌测量方法，其特征在于，在所述工件台水平面上设置两个相互垂直的方向定义为X方向和Y方向，使所述基底上产生三个光斑，其中两个光斑按X方向排列，两个光斑按Y方向排列。

5.如权利要求4所述的激光干涉仪反射镜形貌测量方法，其特征在于，所述三个光斑分别定义为中心光斑、上侧光斑和右侧光斑，所述中心光斑和所述右侧光斑按X方向排列，所述中心光斑和上侧光斑按Y方向排列。

6.如权利要求5所述的激光干涉仪反射镜形貌测量方法，其特征在于，将工件台在X方向上移动若干次，使得每次移动后，中心光斑移动至右侧光斑在移动前所在的位置，将每次右侧光斑移动前所在的垂向高度减去中心光斑移动后所在的垂向高度，得到的所有的差值即为在所述反射镜的镜面在X方向上形貌变化。

7.如权利要求5所述的激光干涉仪反射镜形貌测量方法，其特征在于，将工件台在Y方向上移动若干次，使得每次移动后，中心光斑移动至上侧光斑在移动前所在的位置，将每次上侧光斑移动前所在的垂向高度减去中心光斑移动后所在的垂向高度，得到的所有的差值即为在所述反射镜的镜面在Y方向上形貌变化。

8.如权利要求1所述的激光干涉仪反射镜形貌测量方法，其特征在于，设置调焦调平传感器，所述调焦调平传感器包括调焦调平光源和调焦调平接收器，所述调焦调平光源向位于所述工件台上的基底照射光，使所述基底上产生所述两个以上光斑，由所述调焦调平接收器接收所述基底上反射的光。

9.如权利要求8所述的激光干涉仪反射镜形貌测量方法，其特征在于，所述调焦调平接收器输出所述光斑的垂向高度。

10.如权利要求1所述的激光干涉仪反射镜形貌测量方法，其特征在于，还有一斜反射镜，所述斜反射镜的直角边固定于所述工件台侧面，所述斜反射镜面朝向上方并与所述反射镜镜面相对。

11.如权利要求10所述的激光干涉仪反射镜形貌测量方法，其特征在于，所述斜反射镜为45°反射镜。

12.如权利要求10所述的激光干涉仪反射镜形貌测量方法，其特征在于，所述激光干涉仪射出的测量光经由所述斜反射镜反射至所述反射镜上，再由所述反射镜将所述测量光反射至所述斜反射镜，被所述斜反射镜反射后由所述激光干涉仪接收。