[发明专利]透明导电膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710213729.0 申请日: 2017-04-01
公开(公告)号: CN108666047B 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 刘滨;刘子莲;徐焕翔;蔡颖颖;唐雁煌;张莹洁;王有亮;彭泽亚 申请(专利权)人: 中国电子产品可靠性与环境试验研究所
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00;H01B5/14
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 万志香;陈凌
地址: 510610 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 透明 导电 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种透明导电膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

将金属网在刻蚀液中浸泡刻蚀至透光率和/或方块电阻达到预设数值后,置于酒精中并进行超声清洗,在室温下晾干,得导电层;

将所述导电层平铺于表面平整的基板上,在所述导电层及所述基板上涂覆UV光固化树脂,所述UV光固化树脂在365nm的紫外灯下进行光固化反应2~4h后得透明基层;以及

将所述基板揭下,所述透明基层与所述导电层复合即得所述透明导电膜。

2.如权利要求1所述的透明导电膜的制备方法,其特征在于,所述金属网为铜网、铁网或铝网。

3.如权利要求1或2所述的透明导电膜的制备方法,其特征在于,所述金属网的目数为400~1000目,所述金属网的厚度为20~80μm。

4.如权利要求1所述的透明导电膜的制备方法,其特征在于,所述刻蚀液为氯化铁溶液,所述氯化铁溶液的浓度为0.5~2mol/L。

5.如权利要求1所述的透明导电膜的制备方法,其特征在于,所述浸泡刻蚀的时间为3~8h。

6.如权利要求1所述的透明导电膜的制备方法,其特征在于,所述透光率的预设数值为60%~85%,所述方块电阻的预设数值为400~1000Ω/□。

7.如权利要求1所述的透明导电膜的制备方法,其特征在于,所述超声清洗的时间为3~10min。

8.如权利要求1所述的透明导电膜的制备方法,其特征在于,所述UV光固化光学透明树脂为UV光固化丙烯酸树脂或光固化环氧树脂。

9.如权利要求1所述的透明导电膜的制备方法,其特征在于,所述UV光固化光学透明树脂的涂覆厚度为30~100μm。

10.一种透明导电膜,其特征在于,按照权利要求1~9中任一项所述的透明导电膜的制备方法制备得到。

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