[发明专利]静态随机存取存储器元件及形成方法

权利要求书

1.一种静态随机存取存储器元件，其特征在于，包含：

二基体接触插塞，设置于一晶片中且自该晶片的一背面暴露出，其中该些基体接触插塞在该晶片中经由金属内连线结构电连接一静态随机存取存储器单元；以及

二电阻切换装置，自该晶片的该背面分别连接该些基体接触插塞。

2.依据权利要求1所述的静态随机存取存储器元件，其特征在于，该些基体接触插塞物理性连接该金属内连线结构的一第一金属层。

3.依据权利要求1所述的静态随机存取存储器元件，其特征在于，该些电阻切换装置重叠该静态随机存取存储器单元。

4.依据权利要求1所述的静态随机存取存储器元件，其特征在于，该静态随机存取存储器单元具有一静态随机存取存储器电路，其中该静态随机存取存储器电路包含一第一存储节点以及一第二存储节点。

5.依据权利要求4所述的静态随机存取存储器元件，其特征在于，各该些电阻切换装置具有第一连接端以及第二连接端。

6.依据权利要求5所述的静态随机存取存储器元件，其特征在于，该些电阻切换装置的该些第一连接端分别电连接该第一存储节点以及该第二存储节点。

7.依据权利要求6所述的静态随机存取存储器元件，其特征在于，该些电阻切换装置的该些第二连接端电连接至同一节点。

8.依据权利要求1所述的静态随机存取存储器元件，其特征在于，该些电阻切换装置包含相位变化装置(phase change device,PCD)。

9.依据权利要求1所述的静态随机存取存储器元件，其特征在于，各该些电阻切换装置包含第一电极、第二电极以及电阻切换材料层夹置于该第一电极及该第二电极之间。

10.依据权利要求9所述的静态随机存取存储器元件，其特征在于，该电阻切换材料层包含平面材料层或非平面材料层。

11.依据权利要求9所述的静态随机存取存储器元件，其特征在于，该电阻切换材料层包含锗碲材料(GeTe)层或硒锑碲(SeSbTe)材料层。

12.依据权利要求1所述的静态随机存取存储器元件，其特征在于还包含：

多个接触插塞，设置于该晶片中。

13.依据权利要求12所述的静态随机存取存储器元件，其特征在于，该些接触插塞的顶面与该些基体接触插塞的顶面齐平。

14.一种形成静态随机存取存储器元件的方法，其特征在于，包含：

提供一晶片，该晶片具有二基体接触插塞自该晶片的一背面暴露出，且具有金属内连线结构电连接该些基体接触插塞至一静态随机存取存储器单元；以及

形成二电阻切换装置自该晶片的该背面分别连接该些基体接触插塞。

15.依据权利要求14所述的形成静态随机存取存储器元件的方法，其形成该晶片的方法包含:

提供一基底，具有一正面以及一背面；

自该基底的该正面形成该些基体接触插塞；以及

直接自该基底的该正面形成该金属内连线结构，且该金属内连线结构直接接触该些基体接触插塞。

16.依据权利要求15所述的形成静态随机存取存储器元件的方法，其特征在于，该些基体接触插塞自该基底的该正面形成，而后该些电阻切换装置自该基底的该背面形成。

17.依据权利要求15所述的形成静态随机存取存储器元件的方法，其特征在于，还包含：

当形成该些基体接触插塞时，同时自该基底的该正面形成多个接触插塞于该基底中。