[发明专利]气井泡排剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种气井泡排剂，以质量份数计，包括以下组分：

(1)0.01～1份阴离子表面活性剂；

(2)0.01～1份两性离子表面活性剂；

(3)0.01～0.5份泡沫稳定剂；

其中，所述阴离子表面活性剂具有式(I)所示分子通式：

式(I)中，R₁为H或C₁～C₂₀的脂肪基；R₂为H或C₁～C₂₀的烷基；A为O、S、-(CH₂)_x-、-O-(CH₂CH₂O)_y-中的任意一种，其中x为1～5中的任意一个整数，y为1～5中的任意一个数；M¹、M²均独立选自碱金属离子、碱土金属离子中的至少一种；m、n为磺酸基团的个数，其取值范围为m+n＝1～5中的任意一个整数；a、b分别是M¹、M²的个数，当M¹、M²为碱金属离子时，a＝m，b＝n，当M¹、M²为碱土金属离子时，a＝m/2，b＝n/2；

所述两性离子表面活性剂具有式(II)所示分子通式：

式(II)中，R₃为C₁～C₁₅的脂肪基、C₃～C₁₈脂肪酰胺基和/或R₇O-(CH₂-CH₂-O)_z-中的至少一种，R₇为C₁～C₁₅的脂肪基，z＝1～10；R₄、R₅独立选自C₁～C₁₀的烷基或取代烷基；R₆为C₁～C₄的亚烷基中的一种；B^-选自使式(II)所示分子呈电中性的阴离子基团；c为1～5中的任意一个整数；

所述泡沫稳定剂为羧甲基纤维素、聚丙烯酰胺类聚合物、二乙醇胺、三乙醇胺中的一种或两种以上的混合物。

2.根据权利要求1所述的气井泡排剂，其特征在于所述M¹和M²独立选自任意一种碱金属离子或碱土金属离子，所述R₁为C₄～C₁₅的烷基，所述R₂为H原子或C₄～C₁₅的烷基，所述A为O原子或S原子，所述m和n独立取值为m+n＝1～3中的任意一个整数。

3.根据权利要求1所述的气井泡排剂，其特征在于所述M¹和M²独立选自碱金属离子或碱土金属离子中任意一种，所述R₁为C₈～C₁₅的烷基，所述R₂为C₈～C₁₅的烷基，所述A为-(CH₂)_x-或-O-(CH₂CH₂O)_y-，其中x为1～3中的任意一个整数，y为1～3中的任意一个数。