[发明专利]一种沾污检测系统及检测方法

权利要求书

1.一种沾污检测系统，其特征在于，

包括：

激光剥蚀机，对样品表面进行剥蚀，并将沾污以气溶胶形式提供给电感耦合等离子体质谱仪，或者化学液溶解单元；

化学液溶解单元，利用化学腐蚀液溶解所述样品表面沾污，并将其浓缩为一个液体样品；

电感耦合等离子体质谱仪，测出激光剥蚀机提供的气溶胶，或者化学液溶解单元提供的液体样品；以及

中央控制单元，对系统进行总括控制并以气溶胶做实时沾污分析或以液体样品做总沾污分析，

所述化学液溶解单元包括：微型化学腐蚀槽、化学腐蚀液源瓶和自动取样装置，所述微型化学腐蚀槽分别与所述激光剥蚀机、所述化学腐蚀液源瓶和所述自动取样装置相连，其中，

所述化学腐蚀液源瓶向所述微型化学腐蚀槽供给腐蚀液，所述激光剥蚀机将样品表面沾污所形成的气溶胶通入所述微型化学腐蚀槽并溶于其腐蚀液形成液体样品，所述自动取样装置从所述微型化学腐蚀槽提取所述液体样品传输至所述电感耦合等离子体质谱仪。

2.根据权利要求1所述的沾污检测系统，其特征在于，

所述激光剥蚀机的激光波长是193nm、213nm和266nm中的一种或其组合。

3.根据权利要求1所述的沾污检测系统，其特征在于，

所述微型化学腐蚀槽的体积在10mL～1000mL之间，所述化学腐蚀液源瓶的体积在1L～10L之间。

4.根据权利要求1所述的沾污检测系统，其特征在于，

所述微型化学腐蚀槽为多个。

5.根据权利要求1所述的沾污检测系统，其特征在于，

所述样品为硅基。

6.根据权利要求5所述的沾污检测系统，其特征在于，

所述化学腐蚀液的成分为氢氟酸、硝酸、高氯酸和水。

7.一种沾污检测方法，其特征在于，

包括以下步骤：

模式选择步骤，通过中央控制单元选择图谱式检测模式或定量低检测底线检测模式；

在图谱式检测模式下，包括：样品表面剥蚀子步骤，利用激光剥蚀机对样品表面进行剥蚀，将样品表面沾污送入电感耦合等离子体质谱仪；沾污浓度测定子步骤，利用电感耦合等离子体质谱仪实时测出沾污浓度并把数据传输到中央控制单元；以及图谱分析子步骤，中央控制单元根据激光剥蚀机提供的位置信息和电感耦合等离子体质谱仪提供的实时沾污浓度，做出图谱分析；

在定量低检测底线检测模式下，包括：样品表面剥蚀子步骤，激光剥蚀机对整个样品表面进行剥蚀，将样品表面沾污送入化学液溶解系统；沾污收集子步骤，化学液溶解单元利用腐蚀性液体溶解并收集所述激光刻蚀机所剥蚀的样品表面总沾污，并将其浓缩于一个液体样品，送到电感耦合等离子体质谱仪；沾污浓度测定子步骤，利用电感耦合等离子体质谱仪测出沾污浓度，启动各种抗干扰模式消除硅基体带来的干扰并将数据传输到中央控制单元；以及痕量金属沾污高灵敏度分析子步骤，中央控制单元做出痕量金属沾污低检测底线分析。

8.根据权利要求7所述的沾污检测方法，其特征在于，

在所述定量低检测底线检测模式下，激光剥蚀厚度为0.1～10微米。

9.根据权利要求7所述的沾污检测方法，其特征在于，

在所述定量低检测底线检测模式下，所述抗干扰模式为标准模式、碰撞模式和反应模式中的一种或者多种组合。