[发明专利]显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710223492.4 申请日: 2017-04-07
公开(公告)号: CN106773236B 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 余瑞斌 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G02F1/1334 分类号: G02F1/1334;G02F1/1337
代理公司: 北京市立康律师事务所 11805 代理人: 梁挥;孟超
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置 及其 制造 方法
【说明书】:

发明公开了一种显示装置,包含绝缘层、元件层、电极、对向基板,以及液晶层。绝缘层包含接触洞,其中绝缘层的材料为氧化硅、氮化硅,或氮氧化硅。元件层设置于绝缘层上,元件层包含至少一电子元件。电极设置于绝缘层相对于元件层的表面以及接触洞内,其中电极与至少一电子元件电性连接。液晶层位于电极与对向基板之间,其中液晶层与电极电性连接。

技术领域

本发明是关于一种显示装置及其制造方法。

背景技术

液晶显示装置领域中,液晶显示装置包含阵列基板,彩色滤光片及配置在其间的液晶层。聚合物网络液晶(Polymer Network Liquid Crystal;PNLC)包含高分子聚合物网络以及液晶。液晶分布在聚合物三维网络中,形成连续性的通道网。在不受电场作用下呈现混乱状况,光学上呈现散射态(scattering or hazy type)。而在电场作用时,液晶受上下电场影响而呈现整齐排列,光学上呈现穿透态(transparent type)。由于聚合物网络液晶具有广视角、高反应速度以及低驱动电压等优点,目前已广泛地应用于显示器中。

目前,聚合物网络液晶普遍使用紫外线(UV)聚合反应来进行单体聚合,然而,液晶面板内一般配置了金属线、彩色滤光膜(color filter)与黑色矩阵(black matrix;BM)等结构,这些结构会遮蔽或吸收紫外光并降低单体聚合反应,影响聚合物网络液晶的光电特性。

发明内容

为克服前述的问题,本发明提供一种显示装置及其制造方法,降低了在液晶层进行聚合反应阶段,紫外光受到遮蔽的问题,同时增加了整体液晶层聚合反应的均匀程度,提高了显示装置的光电特性。

本发明的一实施例为一种显示装置,包含绝缘层、元件层、电极、对向基板以及液晶层。绝缘层具有接触洞,其中绝缘层的材料为氧化硅、氮化硅,或氮氧化硅。元件层设置于绝缘层上,元件层包含至少一电子元件。电极设置于绝缘层相对于元件层的表面以及接触洞内,其中电极与至少一电子元件电性连接。液晶层位于电极与对向基板之间。

本发明的另一实施例为一种显示装置,包含绝缘层、元件层、电极、对向基板以及液晶层。绝缘层的材料为聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇、聚醚、聚丙烯、硫化聚丙烯、聚碳酸酯、聚醚酰亚胺、聚苯硫醚、聚氧二甲苯、聚砜或聚邻苯二甲酰胺。元件层设置于绝缘层上,元件层包含至少一电子元件及设置于至少一电子元件上的介电层,且介电层具有接触洞。电极设置于元件层相对于该绝缘层的表面以及接触洞内,其中电极与至少一电子元件电性连接。液晶层位于电极与对向基板之间。

本发明的另一实施例为一种显示装置的制造方法,包含形成元件层于绝缘层上,元件层包含至少一电子元件。于绝缘层上形成接触洞,其中绝缘层的材料为氧化硅、氮化硅或氮氧化硅。形成电极于绝缘层相对于元件层的表面上以及接触洞内,电极与至少一电子元件电性连接。形成液晶层于电极与对向基板之间。

本发明的又一实施例为一种显示装置的制造方法,包含形成元件层于绝缘层上,元件层包含至少一电子元件及设置于至少一电子元件上的介电层,其中绝缘层的材料为聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇、聚醚、聚丙烯、硫化聚丙烯、聚碳酸酯、聚醚酰亚胺、聚苯硫醚、聚氧二甲苯、聚砜或聚邻苯二甲酰胺。于介电层形成接触洞。形成电极于元件层相对于绝缘层的表面上以及接触洞内,电极与至少一电子元件电性连接。形成液晶层于电极与对向基板之间。

附图说明

阅读以下详细叙述并搭配对应的图式,可了解本发明的多个态样。应注意,根据业界中的标准做法,多个特征并非按比例绘制。事实上,多个特征的尺寸可任意增加或减少以利于讨论的清晰性。

图1A至图1I为本发明的部分实施例的显示装置在不同制造阶段的截面图。

图2A至图2I为本发明的部分实施例的显示装置在不同制造阶段的截面图。

其中,附图标记:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710223492.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code