[发明专利]双面显像投影系统、方法及其应用的立体影像投影系统有效

专利信息
申请号: 201710223787.1 申请日: 2017-04-07
公开(公告)号: CN108693694B 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 陈韦廷 申请(专利权)人: 陈韦廷
主分类号: G03B21/604 分类号: G03B21/604;G03B35/26
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 许志勇;程爽
地址: 中国台湾新北市三重*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 双面 显像 投影 系统 方法 及其 应用 立体 影像
【权利要求书】:

1.一种双面显像投影系统,其特征在于,包含:

第一偏光投影设备,用以投射具有第一偏振方向的第一影像光线;

第二偏光投影设备,用以投射具有所述第一偏振方向的第二影像光线;以及

双面可透视偏光膜,配置于所述第一偏光投影设备与所述第二偏光投影设备之间,所述双面可透视偏光膜包含:第一反射粉末层、第二反射粉末层与偏光层,所述偏光层配置于所述第一反射粉末层与所述第二反射粉末层之间,所述第一反射粉末层用以接收并漫反射具有所述第一偏振方向的所述第一影像光线,所述第二反射粉末层用以接收并漫反射具有所述第一偏振方向的所述第二影像光线,所述偏光层具有透射轴,所述透射轴与所述第一偏振方向相互垂直而不透射具有所述第一偏振方向的所述第一影像光线与所述第二影像光线。

2.如权利要求1所述的双面显像投影系统,其特征在于,所述第一偏光投影设备包含第一偏光片与第一投影装置,所述第一投影装置所投射的光线经过所述第一偏光片后形成具有所述第一偏振方向的所述第一影像光线;所述第二偏光投影设备包含第二偏光片与第二投影装置,所述第二投影装置所投射的光线经过所述第二偏光片后形成具有所述第一偏振方向的所述第二影像光线。

3.如权利要求2所述的双面显像投影系统,其特征在于,所述第一投影装置与所述第二投影装置可选择性的为下列任一种:数字光处理(Digital Light Processing,DLP)投影装置、硅基液晶(Liquid Crystal On Silicon,LCOS)投影设备和液晶显示(Liquid CrystalDisplay,LCD)投影设备。

4.如权利要求1所述的双面显像投影系统,其特征在于,所述双面可透视偏光膜还用以透射具有第二偏振方向的光线,所述第一偏振方向与所述第二偏振方向相互垂直,所述透射轴与所述第二偏振方向相互平行。

5.如权利要求1所述的双面显像投影系统,其特征在于,所述第一反射粉末层与所述第二反射粉末层为可透视的反射粉末层。

6.一种双面显像投影方法,其特征在于,其步骤包括:

配置双面可透视偏光膜于第一偏光投影设备与第二偏光投影设备之间,其中,所述双面可透视偏光膜包含:第一反射粉末层、第二反射粉末层与偏光层,所述偏光层配置于所述第一反射粉末层与所述第二反射粉末层之间,所述偏光层具有透射轴;

所述第一偏光投影设备投射具有第一偏振方向的第一影像光线于所述双面可透视偏光膜的一侧,其中,所述透射轴与所述第一偏振方向相互垂直;

所述第二偏光投影设备投射具有所述第一偏振方向的第二影像光线于所述双面可透视偏光膜的另一侧;以及

所述第一反射粉末层接收并漫反射具有所述第一偏振方向的所述第一影像光线,所述第二反射粉末层接收并漫反射具有所述第一偏振方向的所述第二影像光线,所述偏光层阻止具有所述第一偏振方向的所述第一影像光线与所述第二影像光线穿透所述偏光层。

7.如权利要求6所述的双面显像投影方法,其特征在于,所述第一偏光投影设备包含第一偏光片与第一投影装置,在所述第一偏光投影设备投射具有所述第一偏振方向的所述第一影像光线于所述双面可透视偏光膜的一侧的步骤中,还包含:

所述第一投影装置所投射的光线经过所述第一偏光片后形成具有所述第一偏振方向的所述第一影像光线;以及

具有所述第一偏振方向的所述第一影像光线入射于所述双面可透视偏光膜。

8.如权利要求6所述的双面显像投影方法,其特征在于,所述第二偏光投影设备包含第二偏光片与第二投影装置,在所述第二偏光投影设备投射具有所述第一偏振方向的所述第二影像光线于所述双面可透视偏光膜的另一侧的步骤中,还包含:

所述第二投影装置所投射的光线经过所述第二偏光片后形成具有所述第一偏振方向的所述第二影像光线;以及

具有所述第一偏振方向的所述第二影像光线入射于所述双面可透视偏光膜。

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