[发明专利]一种制备大面积不开裂胶体光子晶体膜的方法有效
| 申请号： | 201710225398.2 | 申请日： | 2017-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN107119327B | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 陈苏;朱志杰;张静 | 申请（专利权）人： | 南京捷纳思新材料有限公司 |
| 主分类号： | C30B29/58 | 分类号： | C30B29/58;G02B1/00;C09K11/88 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 徐冬涛;袁正英 |
| 地址： | 210034 江苏省南京市栖霞区仙林大学城*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 制备 大面积 开裂 胶体 光子 晶体 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种制备大面积不开裂胶体光子晶体膜的方法，其具体步骤如下：将水性聚氨酯分散到胶体粒子溶液中；然后以配制成的均相溶液为涂膜液，用丝棒在亲水基底上刮涂出胶体光子晶体膜；最后在胶体光子晶体膜的表面用旋涂仪旋涂出一层量子点；其中所述的涂膜液是胶体粒子和聚氨酯的混合水溶液；其中涂膜液中胶体粒子的质量浓度为25％-35％，聚氨酯的质量浓度为1％-5％；所述的旋涂仪旋涂所用的溶液为CdTe量子点和PVA的混合水溶液，其中CdTe量子点在混合水溶液中的质量分数为0.1％-1％，PVA在混合水溶液中的质量分数为0.5％-2％；所述的胶体粒子是表面羧基改性的单分散聚苯乙烯胶体微球；表面羧基改性的单分散聚苯乙烯微球的粒径范围180nm-300nm，单分散系数为1％-5％；所刮涂出的胶体光子晶体膜的禁带位置位于510nm-620nm。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于CdTe量子点的发射峰在510nm-620nm之间。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于旋涂仪的旋涂速度为1000rpm-2500rpm，时间为30s-60s。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述的亲水基底为玻璃、硅片或塑料中的一种。
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