[发明专利]一种用于测量气体汤逊放电参数的真空实验装置在审

专利信息
申请号: 201710227397.1 申请日: 2017-04-07
公开(公告)号: CN106841963A 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: 邱睿;付仲愈 申请(专利权)人: 哈尔滨理工大学
主分类号: G01R31/16 分类号: G01R31/16;G01R31/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150080 黑龙江省*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 测量 气体 放电 参数 真空 实验 装置
【权利要求书】:

1.一种用于测量气体汤逊放电参数的真空实验装置,其特征在于:包括光电双通路高压密封套管(1)、放电室上盖(2)、真空放电室(5)、真空放电室扩展观察窗(6)、抽真空系统连接法兰(7)、真空挡板阀(8)、真空系统连接气道(9)、真空放电室下座圈(10)、真空放电室下盖(11)、真空放电室平台固定螺孔(12)、下盖密封螺栓(13)、真空电极(15)、下电极连接线(16)、密封传动包(18)、下电极螺杆(20)、放电间隙(21)、真空放电室主观察窗(22)、真空放电室扩展连接口(23)、真空度调节器(24)、真空放电室进样气道(25);

所述光电双通路高压密封套管(1)穿过真空放电室上盖(2),进入真空放电室(5)中,所述真空放电室上盖(2)通过上盖密封螺栓(4)安装于真空放电室(5)上端,所述真空放电室(5)外接有真空放电室扩展观察窗(6)和真空放电室扩展连接口(23),所述真空挡板阀(8)连接于抽真空系统连接气道(9)处,所述抽真空系统连接法兰(7)安装于真空挡板阀(8)下方,所述真空放电室下盖(11),通过下盖密封螺栓(13)与真空放电室下座圈(10)刚性连接,所述真空放电室下盖(11)外缘开设有真空放电室平台固定螺孔(12),所述密封传动包(18)安装于真空放电室下盖(11)两侧,用于实现真空放电室(5)内外的动力传输,所述放电间隙(21)通过光电双通路高压密封套管(1)和下电极螺杆(20)悬吊于真空放电室(5)中间,所述放电间隙(21)通过下电极连接线(16)与真空电极(15)相连,所述真空度调节器(24)通过法兰安装于真空放电室进样气道(9)处,所述真空放电室主观察窗(22)焊接于真空放电室(5)外侧,与放电气隙(21)保持水平,所述真空度调节器(24)安装于真空放电室进样气道(25)处。

2.根据权利要求项1所述一种用于测量气体汤逊放电参数的真空实验装置,其特征在于,所述真空放电室上盖(2)与真空放电室(5)接触面上,使用上盖氟胶O型密封圈(3)实现气密封,所述下真空放电室下盖(11)与真空放电室下座圈(10)接触面上,使用下盖氟胶O型密封圈(14)实现气密封。

3.根据权利要求项1所述一种用于测量气体汤逊放电参数的真空实验装置,其特征在于,所述密封传动包(18)由磁流体密封装置(17)和传动齿轮(19)组成;

所述磁流体密封装置(17)安装于真空放电室下盖(11)外侧,所述所述传动齿轮(19)安装于真空放电室(5)内侧。

4.根据权利要求项1所述一种用于测量气体汤逊放电参数的真空实验装置,其特征在于,所述放电间隙(21)由上电极光学镜片架(2-1),罗可夫斯基上电极(2-2),激发电子入口(2-3),罗可夫斯基下电极(2-4),下电极绝缘(2-5),光路辅助镜片(2-6),密封石英镜片(2-9)组成;

所述上电极光学镜片架(2-1)上部通过螺纹安装于光电双通路高压密封套管(1)下方,下部安装有罗可夫斯基上电极(2-2),所述电极光学镜片架(2-1)下方镶嵌有光路辅助镜片(2-6),用以提供激发电子,所述光路辅助镜片(2-6)未与电极光学镜片架刚性连接,可通过上电极辅助气道(2-8)进行替换,所述激发电子入口(2-3)由镍金属网构成,通过外壁螺纹安装于罗可夫斯基上电极(2-2)中心处,所述罗可夫斯基下电极(2-4)下侧连接有下电极绝缘(2-5),以防止放电信号泄漏,所述下电极绝缘(2-5)与下电极螺杆(20)相连,用以调整放电间隙(21)的距离,所述密封石英镜片(2-9)通过密封胶水粘接于光电双通路高压密封套管(1)下端,用以实现光通路和气密封。

5.根据权利要求项1所述一种用于测量气体汤逊放电参数的真空实验装置,其特征在于,所述放电间隙(21)中的由上电极光学镜片架(2-1)和下电极绝缘(2-5)开设有上电极辅助气道(2-8)和下电极辅助气道(2-6),用以加速闭锁空间的抽真空过程,防止残留气。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨理工大学,未经哈尔滨理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710227397.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top