[发明专利]分段两点相关自线性光谱基线校正方法

权利要求书

1.分段两点相关自线性光谱基线校正方法，其特征在于，该校正方法包括如下步骤：

步骤一、确定对所有目标组分都不敏感或者灵敏度非常低的谱图区间作为非敏感区；

步骤二、分别计算每一个非敏感区的透射率光谱值的均值，并确定出每一个非敏感区内与对应的所述透射率光谱值的均值最接近的谱线a，确定谱线a的光谱值，并将谱线a作为对应非敏感区内选中的谱线；

步骤三、分别选取相邻两个谱线a，计算相邻两个谱线a间区域的基线校正常数值和相关系数；两端区域的基线校正常数值和相关系数与其相邻的区域相一致。

2.按照权利要求1所述的分段两点相关自线性光谱基线校正方法，其特征在于，该方法还包括：步骤四：由步骤三中所得的基线校正常数值和相关系数进行对应区域的基线校正。

3.按照权利要求1或2所述的分段两点相关自线性光谱基线校正方法，其特征在于：

所述步骤一的具体过程如下：根据目标组分的标准光谱图库，搜寻待分析目标组分中对所有目标组分都不敏感或者灵敏度非常低的谱图区间作为非敏感区，设非敏感区的个数为N个。

4.按照权利要求3所述的分段两点相关自线性光谱基线校正方法，其特征在于：

所述步骤二的具体过程如下：在步骤一中所述的每个非敏感区，提取任意两个相邻波段区间的谱线值，按照计算方程式(1)计算该非敏感区的透射光谱值的均值，按照计算方程式(2)找出各个波段区间内最接近透射光谱值的均值的谱线a，并标记所述谱线a，作为对应非敏感区内选中的谱线序号；

计算方程式(1)和(2)如下：

R_i＝mean(T_i(num_starti:num_stopi))(1)；

T_mini(num_mini)＝min(1-R_i)(2)

其中：R_i表示第i个非敏感区间的对应的透射光谱值的均值；

T_i(num_starti:num_stopi)表示第i个非敏感区间的对应的谱线光谱值；

num_starti表示第i个非敏感区的起始谱线序号；

num_stopi表示第i个非敏感区的结束谱线序号；

num表示谱图中谱线序号；

num_mini表示第i个非敏感区间内的最接近该区透射光谱值的均值的谱线序号；

T_mini表示最小的透射光谱值；

上述i＝1，2，…，N；i表示第几个非敏感区间的序号。

5.按照权利要求4所述的分段两点相关自线性光谱基线校正方法，其特征在于：

所述步骤三的具体过程如下：由步骤二中所得的非敏感区的透射光谱值的均值和波段区间中的谱线序号，按照计算方程式(3)和(4)计算出基线校正算法中的参数，即常数值和相关系数；计算方程式(3)和(4)如下：

constant_j＝1-R_i+num_mini*(R_i+1–R_i)/(num_mini+1-num_mini)(3)

coefficient_j＝-(R_i+1–R_i)/(num_mini+1-num_mini)(4)

其中：constant_j表示第j个基线校正常数；该基线校正常数，指的是相邻两个非敏感区间内的最接近该区均值的谱线间的区域的基线校正常数；

coefficient_j表示第j个基线校正系数；该基线校正系数，指的是相邻两个非敏感区间内的最接近该区均值的谱线间的区域的基线校正系数；

上述j＝1,…N-1；j表示什么第几个相邻两个最接近透射光谱值的均值的谱线间基线。

6.按照权利要求5所述的分段两点相关自线性光谱基线校正方法，其特征在于：所述步骤四的具体过程如下：由步骤三中所得的基线校正常数constant_j和基线校正系数coefficient_j，由计算方程式(5)进行基线校正；

T，(num)＝T(num)+coefficient_j+coefficient_j*num(5)；

其中：T，(num)为校正后透射光谱值，T(num)为校正前透射光谱值。