[发明专利]一种氯甲基化聚砜制备荷正电纳滤膜的方法有效
申请号: | 201710228753.1 | 申请日: | 2017-04-10 |
公开(公告)号: | CN106914155B | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | 周勇;余亚伟;高从堦 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | B01D71/68 | 分类号: | B01D71/68;B01D69/12;B01D69/02;B01D67/00;B01D61/00;C02F1/44;C02F101/12;C02F101/30;C02F101/34;C02F101/36;C02F101/38 |
代理公司: | 杭州之江专利事务所(普通合伙) 33216 | 代理人: | 朱枫 |
地址: | 310014 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氯甲基化 制备 电纳 滤膜 方法 | ||
本发明公开了一种氯甲基化聚砜制备荷正电纳滤膜的方法,将氯甲基化聚砜放入三甲胺溶液中从而得到带正电的聚砜材料,磁力搅拌24h。然后将带正电的聚砜材料放入乙二醇甲醚中制备铸膜液,将铸膜液涂覆在聚砜超滤底膜的表面,然后在30℃‑40℃的温度范围内烘干制备成纳滤膜。在1.2MPa的压力下纳滤膜对氯化钠、氯化镁的截留率与通量分别为:69.3%/52.6 L·m‑2·h‑1、76.8%/40.6 L·m‑2·h‑1。由于成膜材料中含有荷正电荷基团,因此膜对带正电荷的染料的截留率均在95%以上,因此可以应用于盐与带正电荷的染料分离,同时由于其带有亲水性基团,因此制备的纳滤膜也具有较好的抗污染性能。
技术领域
本发明属于高分子滤膜制备领域,尤其涉及一种氯甲基化聚砜制备荷正电纳滤膜的方法。
背景技术
近几年膜的分离性能不断优化,但无论是处于实验室研究阶段还是已经工业化的纳滤膜都遇到一些问题,像膜污染,膜氧化和不耐氯等问题。因此就需要探索新的制膜材料与制膜工艺。聚砜是一类耐高温以及高机械强度的工程塑料具有优异的抗蠕变性,而且在双酚A类聚砜材料出现后成为继纤维素衍生物之后成为现阶段最重要的制膜材料。磺化聚砜总体上呈线性大分子,分子链由二苯基砜、醚基及异丙基以及磺酸基组成,不同的基团在分子链中被赋予不同的性能,由处于最高价的硫原子的砜基与苯基构成的二苯基砜,构成高度共轭体系,增加了分子链的稳定性,提供大分子高的热氧化稳定性、刚性、强度和尺寸稳定性,聚砜分子链以刚性为主,同时醚链又赋予了分子链一定的韧性、柔性、加工性、溶解性和易流动性。但聚砜材料具有憎水性,其抗污染性能差,由其制备的膜不耐污染。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供一种氯甲基化聚砜制备荷正电纳滤膜的方法,通过引入氨基增加膜的亲水性,而且使膜的表面带有正电荷;在具有聚砜优良性能的同时,使制备的分离膜对带正电的染料具有良好的截留率。
为此采用如下的技术方案:
一种氯甲基化聚砜制备荷正电纳滤膜的方法,其特征在于包括以下步骤:
步骤(1):将氯甲基化聚砜放入质量分数为5%的三甲胺水溶液中,所述氯甲基化聚砜与三甲胺水溶液的投料质量比为1:10,在800-1500r/min的转速下磁力搅拌12-36h后,真空抽滤,除去多余的三甲胺水溶液,在25-45℃下真空烘干,制得荷正电聚砜;
步骤(2):取过量的步骤(1)制得的荷正电聚砜溶解于乙二醇甲醚中,在常温下以800-1500r/min的转速搅拌24小时充分溶解,真空抽滤后,取上层透明的母液,将母液烘干测定母液中荷正电聚砜的溶质含量;
步骤(3):取步骤(2)制得的母液加入乙二醇甲醚中,配置成浓度不同的铸膜液,所述铸膜液以荷正电聚砜为溶质、质量分数为0.1%-0.9%,然后将铸膜液均匀涂覆在聚砜超滤底膜上,涂覆次数为1-3次,涂覆后静置5-15分钟使反应完全,再将多余的铸膜液移除,最后将膜放入烘箱中在30℃-40℃的温度范围内烘干,制得最终产品膜。
进一步地,所述步骤(1)中磁力搅拌时间为24小时,真空烘干温度为35℃。
进一步地,所述步骤(3)中,铸膜液的涂覆次数为2次,涂覆后的静置时间为10分钟。
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