[发明专利]西瓜种植控温装置

说明书

技术领域

本发明涉及植物种植建筑技术领域，尤其涉及一种西瓜种植控温装置。

背景技术

由于大棚的能适于多数品种的西瓜长势需要，并具有减少病虫害和促进丰产的特点，因此越来越多的西瓜在大棚内进行种植。传统的西瓜栽培技术是让西瓜藤蔓自然的紧贴地面爬地生长，这样对湿度、温度的适应范围窄，易受病虫害的侵袭，也不利于西瓜的发育成熟。此外西瓜在正常生长期间必须要有一定强度的光照，日照不足时，会使植株坐果困难易造成“化瓜”，而且所结的果实因光合产物少，含糖量低，降低了西瓜的品质。特别是有些栽培区域，阴天天气较多，光照时数远远不能满足西瓜的正常生长。因此需要一种西瓜种植大棚来解决现有大棚西瓜不能攀爬和光照不足的问题。

为了解决以上问题，申请号为201620787584.6的中国专利，公开了一种西瓜种植大棚，包括固定在拱形支撑架上的棚布，支撑架下方焊接有有固定杆，支撑架上焊接有若干卡扣，棚布通过卡扣固定在支撑架上；固定杆顶部设有灯杆，灯杆上安装有若干植物生长灯；支撑架和固定杆之间设置有横杆，该横杆上竖直布置有若干引蔓杆，横杆上固定有悬绳索和托住西瓜果实的网兜。此方案结构设计科学合理，具有结构简单、牢固可靠、解决现有大棚西瓜不能攀爬和光照不足的问题，且能提高西瓜品质。通过引蔓杆引蔓，使西瓜攀爬生长，通过网兜将生长的西瓜用网兜悬吊在空中，使西瓜能收到良好的光照，提高对湿度、温度的适应范围，减少受病虫害侵袭机率，还提高了棚内空间利用率。通过采用植物生长灯定时照射西瓜，能够为西瓜补充光照，促进植株坐果和营养吸收，提高西瓜含糖量和品质。

上述方案虽然解决了西瓜不能攀爬和光照不足的问题，但是该方案还存在以下问题：因为西瓜喜温暖、干燥的气候、不耐寒，生长发育的最适温度24-30度，所以对西瓜大棚内的温度进行控制，可以加快西瓜的生长，而上述方案是通过提高西瓜高度来对西瓜的温度进行调节，高度不同，西瓜接受的温度也不同，就需要操作人员不断地调整西瓜的高度，操作起来非常麻烦，费时费力，如不及时调整，将会影响西瓜的生长速度。

发明内容

本发明意在提供一种可方便调节西瓜的生长温度、并加快西瓜的生长速度的一种西瓜种植控温装置。

本方案中的一种西瓜种植控温装置，包括大棚本体，大棚本体开有进风口和出风口，大棚本体内设有调温通道、调温机构和均温机构，进风口与调温通道的一端连通，调温通道的另一端与调温机构连通，调温机构的另一端与均温机构的一端连通，均温机构的另一端与出风口连通。

本方案的技术原理：大棚本体开有进风口和出风口，进风口用于将风引入到大棚本体内，出风口用于将风引出到大棚本体外，以使大棚本体内的空气形成循环；将风从进风口引入到调温通道内，调温通道对新鲜空气进行预调温，使得空气温度在下一个阶段内更加适于调节，新鲜空气经过预调温后，将进入到调温机构内，调温机构将对新鲜空气进行第二次调温，调温机构将把新鲜空气的温度调到适宜状态，温度适宜的新鲜空气将进入到均温机构内，在风向均温机构内流动时，风将不与外界的西瓜、设施、设备等相接触并换热，风在整个通道内流动温差变化将较小，而在风流动的过程中，风将从均温机构内流出，并使整个房舍本体的各个位置接收温度基本相同的空气，保证均温调节的顺利的进行，然后空气经过与大棚本体内换热而排出大棚本体外。

与现有技术相比本方案的有益效果：1、调温通道和调温机构的设置，可将进入到大棚本体内的新鲜空气的温度调节到适宜西瓜生长的温度，无需操作人员不断地调节，方便了适宜西瓜的生长温度的调节；2、风在进入到均温机构后，风在均温机构流动的过程中，风受到的阻力将很小，风在整个通道内流动温差变化将较小，并使整个大棚本体接收温度基本相同的空气，从而避免了靠近进风口处的植物与靠近出风口处的植物之间形成明显的温差，使得大棚本体内的调温效果更好；3、大棚本体内调温更加方便、均匀，可使西瓜保持在适宜的生长温度内，从而加快了西瓜的生长。

进一步，调温通道为大棚本体地下处的地下通道。地下通道冬暖夏凉，在新鲜空气从进风口流入到地下通道时，地下通道内自然地温度将对新鲜空气进行调温，利用自然对房舍本体进行调温，更加节能减排。