[发明专利]木薯的种植方法在审

专利信息
申请号: 201710229535.X 申请日: 2017-04-10
公开(公告)号: CN106879354A 公开(公告)日: 2017-06-23
发明(设计)人: 农祥堂 申请(专利权)人: 农祥堂
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 南宁东智知识产权代理事务所(特殊普通合伙)45117 代理人: 巢雄辉,汪治兴
地址: 532800 广西壮族自*** 国省代码: 广西;45
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摘要:
搜索关键词: 木薯 种植 方法
【权利要求书】:

1.一种木薯的种植方法,其特征在于:包括以下步骤:

S1、选地:选择土壤肥沃、没有石砾和积水的避风土地;

S2、土地平整:将步骤S1所选的地块进行深翻细耙,犁土深 30-40cm,让阳光对土地进行充分暴晒、杀菌,平整土地;

S3、第一次施肥:选择新鲜的鸡粪或羊粪均匀撒到步骤S2平整完成的地块上,然后将肥料与细耙后的土利用耙子进行搅拌;

S4、开沟 :按株行开沟,按行距1m起畦;

S5、下种:选择茎粗节密、芽点完好、不损伤、无病虫的木薯茎秆中下段作为种茎,用刀平整切割,然后埋入土中;

S6、施液态肥:在下种处施液态农家肥,一处施肥量为800-1500mL;

S7、盖土:利用铲子将下种周围的细土覆盖到种茎上;

S8、覆盖地膜:覆盖地膜,地膜四周用泥土压实;

S9、当苗高 10-25 cm 时,将苗上方的地膜开一个洞;

S10、再次施肥:种植20-30天后,再次施液态农家肥,并清除杂草;

S11、完成木薯的种植。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤S2所述充分暴晒为在晴朗的天气下晒足3天。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤S4所述开沟沟深 15-25cm。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤S7所述覆盖到种茎上的土层厚度为5-15cm。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述液态农家肥为茅坑内的液态肥料。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤S9所述的洞直径为5-15cm。

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