[发明专利]一种磁控溅射镀膜系统及利用其制备高纯度靶膜的方法在审
| 申请号： | 201710232108.7 | 申请日： | 2017-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN106978597A | 公开（公告）日： | 2017-07-25 |
| 发明（设计）人： | 刘城淋;杨洪广;占勤;刘振兴 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 102413 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 镀膜 系统 利用 制备 纯度 方法 | ||
【权利要求书】：
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