[发明专利]一种磁屏蔽室的设计方法及系统

权利要求书

1.一种磁屏蔽室的设计方法，其特征在于：包括以下步骤：

基于确定的屏蔽空间，构建具有多层屏蔽层的磁屏蔽室的机械模型；

基于所述机械模型，根据不同的相邻屏蔽层的间隔，计算对应的磁屏蔽室内部中心处的屏蔽效能，获取相邻屏蔽层的最佳间隔；

基于所述机械模型，确定多层屏蔽层的总厚度，计算不同的屏蔽层的厚度比所对应的磁屏蔽室内部中心处的屏蔽效能，获取各屏蔽层的最佳厚度；

根据公式计算所述磁屏蔽室内部中心处的屏蔽效能，其中，B_out表示磁屏蔽室外部磁场大小，B_in表示磁屏蔽室内部中心处磁场大小；

当所述磁屏蔽室包括两层屏蔽层时，根据公式计算所述磁屏蔽室内部中心处的屏蔽效能，其中，X₁和X₂分别为第1层和第2层的尺寸，μ₁和μ₂分别为第1层和第2层材料的磁导率，t₁和t₂分别为第1层和第2层的厚度，系数k由磁屏蔽室的形状决定；所述磁屏蔽室为立方体或球体，对于立方体而言，所述尺寸表示边长；对于球体而言，所述尺寸表示半径；

在屏蔽空间确定的情况下，令为一常数，X₁/X₂＝a，则系数k根据推算。

2.根据权利要求1所述的磁屏蔽室的设计方法，其特征在于：确定多层屏蔽层的总厚度后，各屏蔽层的最佳厚度相等。

3.一种磁屏蔽室的设计系统，其特征在于：包括构建模块、第一获取模块和第二获取模块；

所述构建模块用于基于确定的屏蔽空间，构建具有多层屏蔽层的磁屏蔽室的机械模型；

所述第一获取模块用于基于所述机械模型，根据不同的相邻屏蔽层的间隔，计算对应的磁屏蔽室内部中心处的屏蔽效能，获取相邻屏蔽层的最佳间隔；

所述第二获取模块用于基于所述机械模型，确定多层屏蔽层的总厚度，计算不同的屏蔽层的厚度比所对应的磁屏蔽室内部中心处的屏蔽效能，获取各屏蔽层的最佳厚度；

所述第一获取模块和所述第二获取模块中，根据公式计算所述磁屏蔽室内部中心处的屏蔽效能，其中，B_out表示磁屏蔽室外部磁场大小，B_in表示磁屏蔽室内部中心处磁场大小；

所述第一获取模块和所述第二获取模块中，当所述磁屏蔽室包括两层屏蔽层时，根据公式计算所述磁屏蔽室内部中心处的屏蔽效能，其中，X₁和X₂分别为第1层和第2层的尺寸，μ₁和μ₂分别为第1层和第2层材料的磁导率，t₁和t₂分别为第1层和第2层的厚度，系数k由磁屏蔽室的形状决定；所述磁屏蔽室为立方体或球体，对于立方体而言，所述尺寸表示边长；对于球体而言，所述尺寸表示半径；

在屏蔽空间确定的情况下，令为一常数，X₁/X₂＝a，则系数k根据推算。

4.根据权利要求3所述的磁屏蔽室的设计系统，其特征在于：所述第二获取模块中，确定多层屏蔽层的总厚度后，各屏蔽层的最佳厚度相等。