[发明专利]基于超高阶导模制备圆环状纳米颗粒微结构的方法及装置

权利要求书

1.一种基于超高阶导模制备圆环状纳米颗粒微结构的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一，制备波导结构样品；首先，进行三层玻璃切割，三层玻璃分别为上层玻璃、中间层玻璃和下层玻璃，其中，中间层玻璃中间位置开设有通孔、边缘处设有与通孔连通的进样孔，切割好的玻璃采用光胶技术粘合在一起，通孔处的空腔称为微流体腔，上层玻璃为导波层；其次，采用磁控溅射的方法在导波层上表面溅射镀膜形成耦合层、在下层玻璃下表面溅射镀膜形成衬底；

步骤二，将步骤一制备的波导结构样品固定在θ/2θ转角仪的转台上，选用激光器作为激发光源，波长为可见光和紫外光，然后进行光路-波导结构样品校准，校准的过程为：激光束垂直入射波导结构样品上，当反射光与入射光重合时，为校准点，此时转台角度称为零点；

步骤三，转动转台，改变激光束打到波导结构样品上的入射角，同时记录反射光强度，并绘制反射光强度-入射角度曲线图，在曲线图上找出最佳点；最佳点满足的条件为，反射光强度小于入射光强度的10％，入射角度为0-15度，若有若干个点均满足此条件，则选入射角最小的点作为最佳点；

步骤四，调节转台，使激光束的入射角为最佳点的入射角，保持其他条件不变，向波导结构样品中注入溶剂，待溶剂完全挥发即可得到呈圆环状分布的纳米颗粒。

2.根据权利要求1所述的基于超高阶导模制备圆环状纳米颗粒微结构的方法，其特征在于：所述耦合层为银膜，所述衬底为金膜或银膜。

3.根据权利要求1所述的基于超高阶导模制备圆环状纳米颗粒微结构的方法，其特征在于：所述耦合层的厚度为30-40nm。

4.根据权利要求1所述的基于超高阶导模制备圆环状纳米颗粒微结构的方法，其特征在于：所述衬底的厚度大于100nm。

5.一种基于超高阶导模制备圆环状纳米颗粒微结构的装置，其特征在于：包括激光器、小孔光阑、偏振片、θ/2θ转角仪、波导结构、光电二极管和下载有处理反射光APP的计算机；所述波导结构固定在θ/2θ转角仪上的转台上，激光器的激光发射口与偏振片、小孔光阑的孔、波导结构在同一水平线上，所述小孔光阑为两个，分别置于偏振片的两侧，由波导结构上反射出来的反射光通过光电二极管发送给计算机；所述激光器为785nm半导体激光器，光功率为100mW；

所述波导结构包括耦合层、导波层、衬底和微流体腔，所述耦合层为采用磁控溅射的方法溅射在所述导波层上表面的膜，所述导波层为上层玻璃，上层玻璃与中层玻璃、下层玻璃采用光胶技术粘合在一起，其中，中层玻璃中间位置处设有通孔、边缘处设有与通孔连通的进样孔，通孔所在的空腔为微流体腔，所述下层玻璃的下表面通过磁控溅射的方法溅射一层膜形成衬底；所述耦合层为银膜，所述衬底为金膜或银膜。

6.根据权利要求5所述的基于超高阶导模制备圆环状纳米颗粒微结构的装置，其特征在于：所述耦合层的厚度为30-40nm。

7.根据权利要求5所述的基于超高阶导模制备圆环状纳米颗粒微结构的装置，其特征在于：所述衬底的厚度大于100nm。