[发明专利]CCD像元结构有效

专利信息
申请号: 201710242863.3 申请日: 2017-04-14
公开(公告)号: CN107046046B 公开(公告)日: 2019-08-16
发明(设计)人: 熊平;李立;曾武贤;刘昌举;黄烈云;杨洪;吕玉冰 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十四研究所
主分类号: H01L27/148 分类号: H01L27/148
代理公司: 重庆辉腾律师事务所 50215 代理人: 侯懋琪;侯春乐
地址: 400060 重庆*** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: ccd 结构
【权利要求书】:

1.一种CCD像元结构,其特征在于:所述CCD像元结构由衬底(1)、吸收区(2)、感光区、保护区(3)、信号转移通道、信道(9)和沟阻区(4)组成;所述感光区、保护区(3)、信号转移通道、信道(9)和沟阻区(4)均形成在衬底上侧面的表层中;所述保护区(3)环绕在感光区的外围,保护区(3)上设置有转移缺口;所述转移缺口与感光区的输出部对应;所述信号转移通道位于转移缺口中,信号转移通道的输入端与感光区的输出部连接,信号转移通道的输出端从信道(9)的侧向与信道(9)连接;多个CCD像元结构的信号转移通道均按前述方式与信道(9)连接;所述沟阻区(4)设置在保护区(3)和信道(9)的外围;所述信道(9)的输出部与后级转移通道的输入部连接;所述感光区、保护区(3)、信号转移通道、信道(9)和沟阻区(4)所形成的结构体记为表层结构;所述吸收区(2)形成在衬底(1)中部,吸收区(2)上部与所述表层结构接触;所述感光区由N型区(5)和P型区(6)组成,所述N型区(5)位于P型区(6)的上侧,N型区(5)下部与P型区(6)接触,所述N型区(5)和P型区(6)形成能够实现电荷倍增的PN结二极管;CCD像元结构工作时,通过向信号转移电极一施加电压使N型区(5)和P型区(6)形成雪崩击穿。

2.根据权利要求1所述的CCD像元结构,其特征在于:所述信号转移通道由收集二极管(7)和信号读出势垒(8)组成,所述收集二极管(7)的输入端与感光区的输出部连接,收集二极管(7)的输出端与信号读出势垒(8)的输入端连接,信号读出势垒(8)的输出端从信道(9)的侧向与信道(9)连接。

3.根据权利要求2所述的CCD像元结构,其特征在于:所述收集二极管(7)的掺杂类型为N,所述信号读出势垒(8)的掺杂类型为P,所述信道(9)的掺杂类型为N。

4.根据权利要求1、2或3所述的CCD像元结构,其特征在于:所述后级转移通道中至少包含有一电荷倍增转移通道,所述电荷倍增转移通道能对信道(9)输出的信号进行电荷倍增处理。

5.根据权利要求1、2或3所述的CCD像元结构,其特征在于:所述N型区(5)的掺杂类型为N+,所述P型区(6)的掺杂类型为P-,所述吸收区(2)的掺杂类型为P--,所述衬底(1)的掺杂类型为P。

6.根据权利要求4所述的CCD像元结构,其特征在于:所述N型区(5)的掺杂类型为N+,所述P型区(6)的掺杂类型为P-,所述吸收区(2)的掺杂类型为P--,所述衬底(1)的掺杂类型为P。

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