[发明专利]一种反渗透膜有机污垢的清洗剂有效

专利信息
申请号: 201710244850.X 申请日: 2017-04-14
公开(公告)号: CN106943879B 公开(公告)日: 2019-08-09
发明(设计)人: 王朝辉 申请(专利权)人: 杭州开宇环保科技有限公司
主分类号: B01D65/02 分类号: B01D65/02
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 代理人: 郑越
地址: 311200 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 反渗透膜 清洗剂 表面活性剂 修复剂 螯合剂 磷酸盐缓冲液 反渗透系统 氢氧化钠 有机污垢 长链脂肪醇聚氧乙烯醚 烷基苯磺酸盐组合物 乙二胺四乙酸钙二钠 戊二醛水溶液 重量百分比 微生物类 有机物 纯化水 含盐量 硫酸盐 戊二醛 压力差 有效地 重量比 产水 配伍 污染
【说明书】:

本发明一种反渗透膜有机污垢的清洗剂,所述清洗剂由表面活性剂、螯合剂、氢氧化钠、磷酸盐缓冲液、膜修复剂和水组成,各组分重量百分比为:表面活性剂0.001‑0.005%,螯合剂20‑45%,氢氧化钠0.001‑0.005%,磷酸盐缓冲液15‑45%,膜修复剂0.001‑0.005%,其余为水;所述的表面活性剂为烷基苯磺酸盐组合物或长链脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐;所述的螯合剂为乙二胺四乙酸钙二钠盐;所述的膜修复剂为戊二醛水溶液,按重量比,戊二醛和纯化水的比例为25‑50:75‑50。本发明通过几种组分的合理配伍,产生了协同作用,解决反渗透膜上缓慢发生的胶体、有机物以及微生物类污染,可有效地降低反渗透系统产水的含盐量,提高反渗透系统的产水量并降低反渗透膜前后的压力差。

技术领域

本发明涉及水处理领域。更具体地说,本发明涉及一种用于反渗透膜有机污垢的清洗剂组合物及应用方法。

背景技术

反渗透是一种借助于选择透过性膜的功能,以压差为动力的膜分离技术,当系统所加压力大于溶液的渗透压时,水分子透过膜经过产水流道进入中心管,在一端流出。进入水中的杂质(如硬度离子、胶体、有机物、细菌)被截留在膜的进水侧,从浓水出水端流出,从而达到分离净化的目的。目前,反渗透技术已经被广泛应用于海水淡化、纯水制备、锅炉给水、废水处理以及饮水、饮料、化工产品的浓缩、电子化工和医药等领域。

反渗透装置在运行一段时间以后,在膜上浓水侧会积累胶体、金属氧化物、细菌、有机物、无机垢等物质,引起系统脱盐率下降、出水量降低、压差增大等问题,从而会形成膜污染。此时,要对反渗透膜进行化学清洗以便恢复较好的运行状态。

中国专利申请号CN 103143263 A中,一种有机酸混合物用在清洗剂中,主要用于反渗透膜的清洗。这种酸性清洗剂的作用原理是:该组合物含有柠檬酸、盐酸、氨三乙酸三钠和分散剂,所述分散剂为选自有机膦酸、聚天门冬氨酸、聚环氧琥珀酸以及由选自不饱和有机酸、不饱和有机酸酯和不饱和有机酸酐中的至少一种聚合得到的共聚物和/或均聚物中的至少一种,所述有机膦酸含有羟基、氨基、羧基和磺酸基中的一种或多种。盐酸和柠檬酸组成的混合酸对垢类和金属氧化物类沉积物具有很好的溶解去除效果,柠檬酸易与铁离子形成络合物,与其他的酸液相比具有较强的去铁能力。氨三乙酸三钠是性能优异的螯合剂,有较多的键合位置可与钙、镁、铁、钡等离子形成可溶性的络合物,有助于清除和稳定反渗透膜上清洗下来的污物。

但是由于使用了盐酸等强酸性物质,不但有毒性并且有严重的气体发生,对人体和环境危害极大,危险性高。而为了保证清洗和钝化的表面质量,常 常要有较高的清洗温度,这在清洗过程中将会生成酸雾,同时会造成能源和水资源的浪费,对环境的污染,不利于国民经济的发展和环境的保护。且由于该酸性清洗剂效果单一,对金属离子有较好的清洗作用,但对膜元件中有机污垢和微生物不能到达有效的去除作用。

但是通为了解决这种缺陷,CN 104069740 A中公开了一种分别使用碱性反渗透膜清洗剂对反渗透进行在线清洗,接着使用酸性清洗剂对反渗透膜进行在线清洗,清洗剂是先将含次氮基三乙酸盐、乙二胺四乙酸盐、羟乙基乙二胺三乙酸盐、醇胺类、分散剂、pH调节剂和去离子水混合制得碱性碱性清洗剂对反渗透膜进行在线化学清洗,再加入质量分数柠檬酸和羟基乙酸溶液调节反渗透膜的PH在2~3进行清洗。

但是这种方法清洗必须分步完成清洗过程,先使用碱性物质去除有机物,然后再进行酸洗除金属离子,清洗流程的工艺较复杂、工序繁琐。

发明内容

作为各种广泛且细致的研究和实验的结果,本发明的发明人已经发现,由螯合剂、表面活性剂、氢氧化钠、磷酸缓冲溶液、膜修复剂、水配制而成的碱性清洗液,通过几种组分的合理配伍,产生了协同作用,解决反渗透膜上缓慢发生的胶体、有机物以及微生物类污染,可有效地降低反渗透系统产水的含盐量,提高反渗透系统的产水量并降低反渗透膜前后的压力差。基于这种发现,完成了本发明。

本发明的一个目的是解决至少上述问题和/或缺陷,并提供至少后面将说明的优点。

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