[发明专利]一种提高线型磁控溅射靶枪在凹形柱面基底镀膜质量的方法有效
| 申请号： | 201710247339.5 | 申请日： | 2017-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN106987817B | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 王占山;黄秋实;齐润泽;张众 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 张磊 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 线型 磁控溅射 凹形 柱面 基底 镀膜 质量 方法 | ||
【说明书】：
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