[发明专利]一种用于校准不同示漏气体真空漏孔漏率的系统及方法

权利要求书

1.一种用于校准不同示漏气体真空漏孔漏率的系统，其特征在于，包括氦质谱检漏仪(A)、标准容器(B)、氩气气源、待校准真空漏孔(D)、示漏气源、定容室(I)、涡旋分子泵(K)和涡轮机械泵(L)；所述涡旋分子泵和涡轮机械泵均通过第十阀门(10)与定容室的一端管道连接，所述定容室另一端依次通过第九阀门(9)和第三阀门(3)与标准容器管道连接；所述待校准真空漏孔一端与示漏气源管道连接，待校准真空漏孔另一端依次通过第五阀门(5)和第四阀门(4)管道连接到第九阀门(9)与第三阀门(3)之间的管道上；所述氦质谱检漏仪通过第一阀门(1)管道连接到第五阀门与第四阀门之间的管道上，所述氩气气源通过第二阀门(2)管道连接到第五阀门与第四阀门之间的管道上；

所述待校准真空漏孔与示漏气源的连接管道上设有第一复合真空计(F)；所述定容室上设有一个薄膜电容规(H)，定容室与第十阀门的连接管道上设有第二复合真空计(J)。

2.根据权利要求1所述的一种用于校准不同示漏气体真空漏孔漏率的系统，其特征在于，所述氩气气源用于标定定容室的容积，且该氩气气源为充满氩气的氩气气瓶(C)。

3.根据权利要求2所述的一种用于校准不同示漏气体真空漏孔漏率的系统，其特征在于，还包括一根调压管道，所述调压管道一端连接到待校准真空漏孔(D)上与示漏气源相连的一端，另一端连接到第十阀门(10)上、与涡轮机械泵(L)和涡旋分子泵(K)相连的一端；所述调压管道上设有第八阀门(8)。

4.根据权利要求3所述的一种用于校准不同示漏气体真空漏孔漏率的系统，其特征在于，所述示漏气源包括通过第六阀门(6)与待校准真空漏孔(D)管道连接的氘气气瓶(E)。

5.根据权利要求4所述的一种用于校准不同示漏气体真空漏孔漏率的系统，其特征在于，所述示漏气源包括通过第六阀门(6)与待校准真空漏孔(D)管道连接的氘气气瓶(E)，以及通过第七阀门(7)与待校准真空漏孔(D)管道连接的氦气气瓶(G)。

6.根据权利要求5所述的一种用于校准不同示漏气体真空漏孔漏率的系统，其特征在于，所述第一阀门(1)、第二阀门(2)、第三阀门(3)、第四阀门(4)、第五阀门(5)、第六阀门(6)、第七阀门(7)和第九阀门(9)均为全金属超高真空角阀，所述第八阀门(8)和第十阀门(10)均为插板阀。