[发明专利]一种制备纳米光栅的装置和方法有效

专利信息
申请号: 201710253240.6 申请日: 2017-04-18
公开(公告)号: CN106918857B 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 侯想;仇凯弘;陈峰;欧金亮 申请(专利权)人: 福建中晶科技有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 姚壮
地址: 364000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 制备 纳米 光栅 装置 方法
【说明书】:

发明公开了一种制备纳米光栅的装置,包括安装底座和L形安装支架,且L形安装支架固定焊接在安装底座的一侧顶部,所述安装底座的底部固定焊接有支撑架,所述安装底座的顶部固定安装有电机,所述电机的输出轴连接有第二转动连接件,所述第二转动连接件远离电机的一端设有匀胶台,所述第二转动连接件与匀胶台转动连接。本发明提出的一种制备纳米光栅的装置,结构简单,设计合理,利用匀胶台完成光刻胶旋涂工序,利用电子束曝光机、中间掩膜版、聚光透镜和反射镜完成基片的曝光工作,本发明提出的装置用于制备纳米光栅,设备投资小,制备成本低,操作简单,易于控制,制备周期短,所得纳米光栅性能好、质量高,成品合格率高,值得推广。

技术领域

本发明涉及纳米光栅技术领域,尤其涉及一种制备纳米光栅的装置和方法。

背景技术

光栅作为一种非常重要的化学元件,被广泛应用于集成电路、光通信、光学互连、光信息处理、光学测量等领域。随着纳米技术的飞速发展,纳米技术成为了当前研究最广泛、投入最多的科学技术领域之一。随着光栅在纳米尺度的应用,纳米光栅的制备方法显得十分重要。现有技术中,纳米光栅的制备方法主要包括全息光刻、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻等等。上述方法普遍存在所用设备投资成本高,操作复杂,工艺条件苛刻,难以控制,纳米光栅制备成本高、周期长,所得纳米光栅质量不达标,成品合格率低等问题。基于上述陈述,本发明提出了一种制备纳米光栅的装置和方法。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种制备纳米光栅的装置和方法。

一种制备纳米光栅的装置,包括安装底座和L形安装支架,且L形安装支架固定焊接在安装底座的一侧顶部,所述安装底座的底部固定焊接有支撑架,所述安装底座的顶部固定安装有电机,所述电机的输出轴连接有第二转动连接件,所述第二转动连接件远离电机的一端设有匀胶台,所述第二转动连接件与匀胶台转动连接,所述L形安装支架靠近匀胶台的一侧设有第一滑槽,所述第一滑槽内设有推杆电机,且第一滑槽与推杆电机滑动连接,所述推杆电机的输出轴固定连接有安装支架,所述安装支架的底端固定焊接有储胶室,且所述储胶室的下方设有出胶口,所述L形安装支架靠近匀胶台的一侧固定安装有电子束曝光机,且电子束曝光机位于推杆电机的上方,所述L形安装支架的顶部靠近匀胶台的一侧设有第二滑槽,所述第二滑槽内设有第一滑块和第二滑块,所述第一滑块和第二滑块均匀第二滑槽滑动连接,所述第一滑块远离第二滑槽的一端固定连接有中间掩膜版,所述第二滑块远离第二滑槽的一端固定连接有聚光透镜,所述L形安装支架的顶部远离电子束曝光机的一端底部固定安装有第一转动连接件,所述第一转动连接件的底端设有反射镜,且所述第一转动连接件与反射镜转动连接。

优选的,所述电子束曝光机、中间掩膜版和聚光透镜的中心轴线为同一条水平线。

优选的,所述支撑架共4个,且等距分布在安装底座的底部外侧。

本发明还提出了一种制备纳米光栅的方法,包括以下步骤:

S1、对基片进行预处理后,在基片表面镀上厚度为0.08~0.19μm的金属膜,然后将基片置于匀胶台上,使金属膜朝上,利用推杆电机调节出胶口的位置至基片中心位置,滴正性光刻胶并启动电机,电机通过第二转动连接件带动匀胶台高速转动至金属膜表面旋涂一层厚度为0.2~0.3μm的正性光刻胶,旋涂均匀后,置于150~190℃下烘干1~2min;

S2、在步骤S1所得的光刻胶表面再滴负性光刻胶,旋涂一层厚度为0.19~0.25μm的负性光刻胶,旋涂均匀后,置于70~90℃下烘干1~2min,95~105℃的条件下烘干1~2min;

S3、调节电子束曝光机、中间掩膜版和聚光透镜之间的位置,调节反射镜的反射角度,将光掩膜版置于基片上方,且保证光掩膜版与基片紧密贴合,以曝光剂量为68~88mJ/cm2进行曝光处理;

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