[发明专利]富氢足浴盆

权利要求书

1.富氢足浴盆，包括足浴盆本体，所述足浴盆本体用于盛装液体，其特征在于，

还包括设于所述足浴盆本体中的制氢装置；

所述足浴盆本体上设有定位孔，所述制氢装置通过所述定位孔连接在所述足浴盆本体上。

2.根据权利要求1所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述足浴盆本体包括外壳体和内壳体；

所述外壳体套设于所述内壳体外，所述内壳体上设有与所述外壳体的内腔连通的连通口；

所述制氢装置设于所述内壳体和所述外壳体之间。

3.根据权利要求2所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述制氢装置包括由上盖和下盖组成的电解容腔，所述上盖和所述下盖均为绝缘体；

所述上盖和所述下盖上设有多个与外界连通的镂空；

所述上盖设于所述内壳体内侧，所述下盖设于所述内壳体和所述外壳体之间。

4.根据权利要求3所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述制氢装置包括电解阴极和电解阳极，所述电解阴极和所述电解阳极均设于所述上盖和所述下盖构成的所述电解容腔中；

制氢装置的电解液为水。

5.根据权利要求3所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述内壳体上设有所述定位孔，所述上盖上设有螺纹孔，所述下盖上设有安装孔；

螺钉依次穿过所述安装孔、所述定位孔拧入所述螺纹孔中。

6.根据权利要求2所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述内壳体的底部设有多个凸起，所述内壳体的侧壁上设有按摩滚轮。

7.根据权利要求2所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述外壳体外侧环设有发光单元。

8.根据权利要求1所述的富氢足浴盆，其特征在于，还包括控制器，所述控制器控制向所述制氢装置供电。

9.根据权利要求8所述的富氢足浴盆，其特征在于，还包括与所述控制器电性连接的控制面板，所述控制面板设于所述足浴盆本体的表面；

所述控制面板控制所述控制器控制所述制氢装置工作。

10.根据权利要求8所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述控制器上设有无线通信模块，移动终端通过所述无线通信模块控制所述制氢装置工作。