[发明专利]温控双V形结构精密连续调节金属纳米光栅周期的装置

说明书

本发明公开了一种温控双V形结构精密连续调节金属纳米光栅周期的装置及方法。本发明是利用温控的方法和微纳加工工艺实现的。可运用于光栅光学、微纳光学领域。利用微纳加工技术制作金属纳米光栅和双V形对称结构，利用双V形对称结构的温控作用实现对纳米光栅周期的精密调控。由于双V形对称结构在外加电压作用下产生焦耳热，温度升高会使得V形结构拉伸，可以在纳米级别的精度连续上改变光栅周期。扩展了温控V形对称结构的应用范围，为光栅光学和微纳光学的发展提供了有价值的参考。

技术领域

本发明属于一种构筑双V形对称结构并连续调节位于其上的纳米光栅周期的装置和方法，具体涉及微纳光学、光栅光学等领域。

背景技术

微纳光学的迅速发展和光栅光学的深入研究为微型化光栅的研究与应用打下了坚实的基础。光栅是一个具有等宽等间距的平行狭缝的常用光学器件，一般常用的光栅是大量的平行刻痕，刻痕不透光，相邻两刻痕间透光，这种利用透射光衍射的光栅为透射光栅，利用两刻痕间的反射光衍射的光栅，如在镀有金属层的表面上刻出许多平行刻痕，两刻痕间的光滑金属面可以反射光，这种光栅称为反射光栅。随着光栅应用范围的增加，研究者对光栅精度要求越来越高，微纳光学的发展促成了纳米光栅的产生，制作纳米光栅的方法有很多。本发明中，使用了电子束曝光技术制作金属纳米光栅。目前，在光栅光学领域，传统的光栅在制作出来以后无法再改变其周期，而很多研究中需要使用周期可变的光栅来进行精密连续的研究过程，鉴于此，本发明中利用双V形对称结构通过温控原理能够精确地连续调节金属纳米光栅周期，实现连续改变光栅周期的实时研究。

为解决精密连续调节金属光栅周期用以实时研究的问题，本发明提出了温控的双V形对称结构精密连续调节金属纳米光栅周期的装置和调节方法。

发明内容

本发明的目的是提供一种通过温控作用的结构可以精密连续调节金属纳米光栅周期的装置。利用微纳加工工艺产生双V形对称结构，并通过结构产生的温度精密调节控制位于结构中间的金属纳米光栅的周期。

本发明采用的技术方案是：

一种温控双V形结构精密连续调节金属纳米光栅周期的装置，其特征在于，包括双V形结构装置、金属纳米光栅结构、绝缘衬底上的硅(SOI)、金属沉积层(金)。

所述双V形结构装置具有优良的稳定性和可控性，外加电压的大小和时间的不同可以控制其产生的焦耳热量，从而提升不同的温度，进而不同程度地改变金属纳米光栅周期的大小，装置的平面可拉伸位移为一百多纳米，能够在纳米量级精确调控金属光栅周期，且由于装置的平面特性，可以在使用光栅的同时精密调节光栅周期。

所述纳米光栅结构是利用微纳加工工艺在双V形对称结构的中间部分加工成的。

所述金属沉积层(金)附着在绝缘衬底上的硅(SOI)表面，用于刻蚀纳米光栅以及对其施加电压。

本发明所述测量芯片的制备方法，包括如下步骤：

(1)利用电子束蒸镀工艺在绝缘衬底上的硅(SOI)表面蒸镀600nm厚的金属层(金)。

(2)利用紫外光刻的方法将绝缘衬底上的硅和金属沉积层(金)制作成悬臂长约400um的双V形对称结构。

(3)利用聚焦离子束(FIB)技术在双V形对称结构的中间部分加工周期均为500nm，线宽为250nm的光栅方向分别平行和垂直于双V结构中间长条部分的反射式和透射式金属光栅。

(4)利用湿法刻蚀的方法将结构下方的硅和二氧化硅完全腐蚀掉，使整个金属双V形对称结构完全悬空。(对透射式金属光栅还需要利用FIB技术将基底刻出一个方形洞口，反射式金属光栅则不需要)。

本发明所述芯片的测试方案，包括如下步骤：