[发明专利]光学建模方法及其电子装置

权利要求书

1.一种光学建模方法，适于电子装置并用以建立目标透镜模型，其特征在于，所述光学建模方法包括：

依据光源的空间光强度分布以及第一目标光强度分布，计算并产生第一透镜模型；

导入所述光源的外型，并依据所述空间光强度分布以及所述第一透镜模型，计算第一光强度分布；

比较所述第一目标光强度分布以及所述第一强度分布的第一差异度；

若所述第一差异度不大于预设阀值，以所述第一透镜模型作为所述目标透镜模型；以及

若所述第一差异度大于所述预设阀值，依据所述第一差异度修正所述第一目标光强度分布为第二目标光强度分布，并依据所述光源的所述空间光强度分布以及所述第二目标光强度分布，计算并产生第二透镜模型。

2.根据权利要求1所述的光学建模方法，其特征在于，若所述差异度大于所述预设阀值，所述光学建模方法还包括：

依据所述光源的所述外型、所述空间光强度分布以及所述第二透镜模型，计算第二光强度分布；

比较所述第一目标光强度分布以及所述第二光强度分布的第二差异度；

若所述第二差异度不大于所述预设阀值，以所述第二透镜模型作为所述目标透镜模型；以及

若所述第二差异度大于所述预设阀值，依据所述第二差异度修正所述第二目标光强度分布为第三目标光强度分布，并依据所述光源的所述空间光强度分布以及所述第三目标光强度分布，计算并产生第三透镜模型。

3.根据权利要求1所述的光学建模方法，其特征在于，依据所述光源的所述空间光强度分布以及所述第一目标光强度分布，计算并产生所述第一透镜模型的步骤包括：

设定所述第一透镜模型的至少一第一参数；以及

基于所述至少一第一参数，依据所述光源的所述空间光强度分布以及所述第一目标光强度分布，计算并产生所述第一透镜模型，

其中所述至少一第一参数包括所述第一透镜模型的长度、宽度、高度以及折射率的至少其中之一。

4.根据权利要求1所述的光学建模方法，其特征在于，导入所述光源的所述外型，并依据所述空间光强度分布以及所述第一透镜模型，计算所述第一光强度分布的步骤包括：

导入所述光源的所述外型，并模拟所述光源经由所述第一透镜模型所产生的穿透光、反射光以及杂散光，以计算所述第一光强度分布，

其中所述杂散光包括一次反射杂散光以及二次反射杂散光。

5.根据权利要求1所述的光学建模方法，其特征在于，还包括：

记录所述第一光强度分布以及其所对应的所述第一透镜模型以及所述第一目标光强度分布。

6.一种电子装置，用以建立目标透镜模型，其特征在于，所述电子装置包括：

输入装置，用以接收第一目标光强度分布；

存储装置，用以存储多个模块；以及

处理装置，耦接于所述输入装置以及所述存储装置，用以载入并执行所述多个模块，其中所述多个模块包括：

模型计算模块，用以依据光源的空间光强度分布以及所述第一目标光强度分布，计算并产生第一透镜模型；

强度分布计算模块，用以导入所述光源的外型，并依据所述空间光强度分布以及所述第一透镜模型，计算第一光强度分布；

差异计算模块，用以比较所述第一目标光强度分布以及所述第一光强度分布的第一差异度，以及判断所述第一差异度是否大于预设阀值；

模型决定模块，用以在所述第一差异度不大于所述预设阀值时，以所述第一透镜模型作为所述目标透镜模型；以及

补偿模块，用以在所述第一差异度大于所述预设阀值时，依据所述第一差异度修正所述第一目标光强度分布为第二目标光强度分布，其中所述模型计算模块还依据所述光源的所述空间光强度分布以及所述第二目标光强度分布，计算并产生第二透镜模型。