[发明专利]无机纳米材料印刷油墨及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710255872.6 申请日: 2017-04-17
公开(公告)号: CN108727896A 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 李雪 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: C09D11/03 分类号: C09D11/03;C09D11/033;B41J2/01
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 黄志云
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 无机纳米材料 硼酸酯类 有机溶剂 芳香族基团 结构通式 印刷油墨 脂肪族 沸点 制备
【权利要求书】:

1.一种无机纳米材料印刷油墨,其特征在于,包括至少一种无机纳米材料和至少一种硼酸酯类有机溶剂,所述硼酸酯类有机溶剂的沸点为150℃-400℃,所述硼酸酯类有机溶剂的结构如结构通式Ⅰ或结构通式Ⅱ所示:

其中,所述R1、R2、R3单独选自H、C1-30的脂肪族、芳香族基团,且所述R1、R2、R3中最多只有一个为H;

所述R4为C1-30的脂肪族、芳香族基团;

所述a、b、c的取值范围分别为0-3,且a+b+c=3。

2.如权利要求1所述的无机纳米材料印刷油墨,其特征在于,所述C1-30的脂肪族、芳香族基团含有一个或多个取代基,所述取代基包括烷基、芳基、硝基、氰基、氨基、-N(R’)(R”)、卤素、羟基、羧基、酯基、醚基、羰基、烯基、炔基、环烷基、烷氧基、芳基、杂芳基、芳氧基、杂芳氧基、烷氧羰基、全氟烷基、全氟烷氧基、硫代烷氧基、-S(O)2-N(R’)(R”)、-C(=O)-N(R’)(R”)、(R’)(R”)正烷基、(R’)(R”)正烷氧基、(R’)(R”)正烷基、芳氧基烷基、-S(O)s-芳基、-S(O)s-杂芳基、甲硅烷基基团,其中,所述s的取值范围为0-2,所述R’和R”单独选自烷基、环烷基、芳基、取代烷基、取代环烷基、取代芳基。

3.如权利要求2所述的无机纳米材料印刷油墨,其特征在于,所述烷基包括C1-25的支链烷基、直链烷基、环烷基。

4.如权利要求2所述的无机纳米材料印刷油墨,其特征在于,所述烷基包括甲基、乙基、丙基、异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、异戊基、新戊基、环戊基、己基、环己基、异己基;和/或

所述芳基包括苯基、联苯基、三苯基、苯并萘基、蒽基、phenalene、菲基、芴基、芘基、屈基、苝基、薁基;和/或

所述杂芳基包括二苯并噻吩、二苯并呋喃、呋喃、噻吩、苯并呋喃、苯并噻吩、咔唑、吡唑、咪唑、三氮唑、异恶唑、噻唑、噁二唑、oxatriazole、二恶唑、噻二唑、吡啶、哒嗪、嘧啶、吡嗪、三嗪、恶嗪、oxathiazine、oxadiazine、吲哚、苯并咪唑、吲唑、indoxazine、苯并恶唑、benzisoxazole、苯并噻唑、喹啉、异喹啉、邻二氮(杂)萘、喹唑啉、喹喔啉、萘、酞、蝶啶、氧杂蒽、吖啶、吩嗪、吩噻嗪、吩恶嗪、dibenzoselenophene、benzoselenophene、benzofuropyridine、indolocarbazole、pyridylindole、pyrrolodipyridine、furodipyridine、benzothienopyridine、thienodipyridine、benzoselenophenopyridine和selenophenodipyridine形成的取代基。

5.如权利要求1所述的无机纳米材料印刷油墨,其特征在于,所述硼酸酯类有机溶剂包括硼酸三甲酯、硼酸三乙酯、硼酸三丙酯、硼酸三异丙酯、硼酸三丁酯、硼酸三戊酯、硼酸三己酯、硼酸三辛酯、硼酸三癸基酯、硼酸三(4-氯苯)酯、硼酸三邻甲苯酯、乙氧基硼酸频哪醇酯。

6.如权利要求1-5任一所述的无机纳米材料印刷油墨,其特征在于,所述无机纳米材料占无机纳米材料印刷油墨总重量的0.01-20%;和/或

所述硼酸酯类有机溶剂占无机纳米材料印刷油墨总重量的0.01-99.9%。

7.如权利要求1-5任一所述的无机纳米材料印刷油墨,其特征在于,所述硼酸酯类有机溶剂在25℃下的粘度范围为0.5cPs-60cPs。

8.如权利要求1-5任一所述的无机纳米材料印刷油墨,其特征在于,所述硼酸酯类有机溶剂在25℃下的表面张力为20-80mN/m。

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