[发明专利]一种定位指导型静电粉末喷涂修正设备在审

专利信息
申请号: 201710258045.2 申请日: 2017-04-19
公开(公告)号: CN107159479A 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 茆文斌 申请(专利权)人: 天长市金陵电子有限责任公司
主分类号: B05B5/00 分类号: B05B5/00;B05B15/00;B05B13/02;G06T17/00
代理公司: 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙)34119 代理人: 段晓微,叶美琴
地址: 239300 安徽省滁州*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 定位 指导 静电 粉末 喷涂 修正 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及静电喷涂技术领域,尤其涉及一种定位指导型静电粉末喷涂修正设备。

背景技术

静电喷涂工艺是利用静电把粉体吸附在工件的表面,经烧烤成膜的涂装工艺。静电喷涂法是以接地的被涂物作为阳极,设备高压电栅作为阴极,接上负高压,在两极间形成高压静电场,阴极产生电晕放电,使喷出的涂料粒子带电,并进一步雾化,按同性相斥,异性相吸的原理,使带电的涂料粒子在静电场的作用下沿电力线方向吸附被涂物,放电后粘附在被涂物上的一种工艺方法。

目前,静电喷涂多是通过工人手工握持喷枪完成。在长时间从事重复性工作后,工人容易产生视觉和脑神经疲劳,从而,难以保证喷涂质量。

发明内容

基于背景技术存在的技术问题,本发明提出了一种定位指导型静电粉末喷涂修正设备。

本发明提出的一种定位指导型静电粉末喷涂修正设备,包括:

建模单元,其中设有三维坐标系,且三维坐标系中预设有喷涂模型;

扫描单元,其与建模单元连接,用于对修复目标进行扫描;

建模单元在三维坐标系中根据扫描数据建立实体模型,并将实体模型与喷涂模型进行对比,并根据对比结果生成缺失模型,缺失模型包括所有喷涂模型相较于实体模型多出的点;

建模单元提取缺失模型表面的点建立缺失蒙层,缺失蒙层可配合实体模型将缺失模型密封包裹;建模单元根据缺失蒙层走线将其分割为多个喷射子区;

光照单元,其与建模单元连接,获得各喷射子区定位,并逐一向各喷射子区投光;

静电粉末喷射单元,用于向光照中的喷射子区喷射附着电荷的粉末。

优选地,还包括控光按钮,其与光照单元连接;光照单元接收到按钮信号,光照向下一个待涂粉的喷射子区转移。

优选地,缺失蒙层上任一点最多被两个喷射子区囊括。

优选地,各喷射子区均为圆形。

优选地,静电粉末喷射单元包括第一喷枪和第二喷枪,第二喷枪的枪口孔径小于第一喷枪的枪口孔径。

优选地,第二喷枪的枪口孔径为第一喷枪的枪口孔径的十分之一或者百分之一。

优选地,建模单元建立实体模型后,将实体模型位移至中心点与喷涂模型中心点重合,然后提取存在于喷涂模型却不存在于实体模型的点生成缺失模型。

优选地,建模单元建立实体模型后,提取喷涂模型表面的点生成喷涂蒙层,然后将喷涂蒙层覆盖到实体模型上,并建立填充蒙层与实体模型之间的空隙的缺失模型。

本发明提出的一种定位指导型静电粉末喷涂修正设备工作时,首先开启设备,设备通过建模单元完成准备工作后,向喷射子区投光,工作人员通过静电粉末喷枪向被光线笼罩的喷射子区喷粉。如此,通过投光区域的转移,逐一完成对各喷射子区的喷粉。在光照指引下,喷粉路径明确,有利于避免重复喷粉,还可克服工人在长期进行重复工作后视觉疲劳导致的失误,有利于保证修复工作进行的顺利,保证修复质量。

本发明中,建模单元在三维坐标系中根据扫描数据建立实体模型,并将实体模型与喷涂模型进行对比,并根据对比结果生成缺失模型,缺失模型包括所有喷涂模型相较于实体模型多出的点。如此,通过三维建模、模型对比确定修复目标上的缺失部分,实现了对于缺失部分的精确定位,为光照的精准指引提供了基础。

附图说明

图1为本发明提出的一种定位指导型静电粉末喷涂修正设备结构示意图。

具体实施方式

参照图1,本发明提出的一种定位指导型静电粉末喷涂修正设备,包括:建模单元1、扫描单元2、光照单元3、控光按钮4和静电粉末喷射单元。

建模单元1中设有三维坐标系,且三维坐标系中预设有喷涂模型。

扫描单元2与建模单元1连接,用于对修复目标进行扫描。本实施方式中,扫描单元2采用红外激光器进行扫描,采用红外扫描的方式可保证扫描效率和精确度。

建模单元1在三维坐标系中根据扫描数据建立实体模型,并将实体模型与喷涂模型进行对比,并根据对比结果生成缺失模型,缺失模型包括所有喷涂模型相较于实体模型多出的点。

具体地,建模单元1建立实体模型后,将实体模型位移至中心点与喷涂模型中心点重合,然后提取存在于喷涂模型却不存在于实体模型的点生成缺失模型。或者,建模单元1建立实体模型后,提取喷涂模型表面的点生成喷涂蒙层,然后将喷涂蒙层覆盖到实体模型上,并建立填充蒙层与实体模型之间的空隙的缺失模型。

以上提供的两种缺失模型的建立方式,都是对修复目标缺失涂层的补充,如此建立的缺失模型为修复目标的修补工作奠定了基础。

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