[发明专利]一种N型硅异质结太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710265898.9 申请日: 2017-04-21
公开(公告)号: CN106876595A 公开(公告)日: 2017-06-20
发明(设计)人: 徐晨;陈帅梁;陈琳;顾运莉 申请(专利权)人: 江苏天雄电气自动化有限公司
主分类号: H01L51/42 分类号: H01L51/42;H01L51/44;H01L51/48
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司32243 代理人: 顾伯兴
地址: 225314 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 型硅异质结 太阳能电池 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种N型硅异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:

(1)对N型硅片进行清洗,接着利用氢氟酸去除氧化硅绝缘层;

(2)采用金属离子辅助化学刻蚀法在所述N型硅片的上表面制备N型硅纳米线阵列;

(3)将含有所述N型硅纳米线阵列的所述N型硅片浸入硫化钠的乙二醇溶液中,作为阳极,并在硫化钠的乙二醇溶液中放置铂电极,作为阴极,进行电镀硫化处理,以得到硫化钝化层;

(4)在所述N型硅纳米线阵列的表面旋涂铁电薄膜材料的前驱体溶液,在150-180℃下烘烤5-10分钟,然后在500-600℃下退火处理10-20分钟,以得到铁电钝化薄膜;

(5)随后于惰性气氛中在所述铁电钝化薄膜的表面旋涂2,2’,7,7’-四(N,N-二-对-甲氧基苯基-氨)-9,9’-螺二芴溶液,在空气中110-120℃下退火10-20分钟,以得到2,2’,7,7’-四(N,N-二-对-甲氧基苯基-氨)-9,9’-螺二芴薄膜,所述N型硅纳米线阵列与所述2,2’,7,7’-四(N,N-二-对-甲氧基苯基-氨)-9,9’-螺二芴薄膜形成径向异质结;

(6)在所述2,2’,7,7’-四(N,N-二-对-甲氧基苯基-氨)-9,9’-螺二芴薄膜的表面旋涂聚乙烯醇溶液,在105-110℃下退火12-15分钟,以得到聚乙烯醇隧道层,所述聚乙烯醇隧道层的厚度为1-3纳米;

(7)在所述聚乙烯醇隧道层的表面旋涂PEDOT:PSS溶液,在110-120℃下退火20-30分钟,以得到PEDOT:PSS透明导电层;

(8)在所述N型硅片的下表面旋涂聚乙烯亚胺溶液,在105-110℃下退火12-15分钟,以得到聚乙烯亚胺层,所述聚乙烯亚胺层的厚度为1-3纳米;

(9)在所述PEDOT:PSS透明导电层的表面制备银电极,在所述聚乙烯亚胺层的表面制备铝电极。

2.根据权利要求1所述的N型硅异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于:所述N型硅纳米线阵列中硅纳米线的长度为500-1500nm,相邻硅纳米线之间的间距为100-500nm,所述硅纳米线的直径为50-300nm。

3.根据权利要求1所述的N型硅异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于:所述铁电钝化薄膜的材质为PZT、BTO、BFO或BST,所述铁电钝化薄膜的厚度为1-3纳米。

4.根据权利要求1所述的N型硅异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于:所述2,2’,7,7’-四(N,N-二-对-甲氧基苯基-氨)-9,9’-螺二芴薄膜的厚度为35-55纳米。

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