[发明专利]阴井盆盖有效
| 申请号： | 201710270134.9 | 申请日： | 2017-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN108729530B | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 蔡岱君 | 申请（专利权）人： | 蔡岱君 |
| 主分类号： | E03F5/04 | 分类号： | E03F5/04;E03F5/06 |
| 代理公司： | 11355 北京泰吉知识产权代理有限公司 | 代理人： | 史瞳;谢琼慧 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阴井 围绕壁 排孔 盆盖 排水孔 排水单元 底缘 拱壁 下缘 水位调节室 分散效果 水流方向 水位调节 高度差 界定 水位 室内 | ||
1.一种阴井盆盖，适合套装在一个渗透阴井的上方，并包含一个围绕壁，其特征在于：
该阴井盆盖还包含一个与该围绕壁共同界定出一个水位调节室的突拱壁，该围绕壁具有至少一个侧排孔，该至少一个侧排孔具有一个底缘，该突拱壁具有一个排水单元，该排水单元具有至少一个第一排水孔，该至少一个第一排水孔具有一个下缘，该下缘高于该至少一个侧排孔的该底缘。
2.根据权利要求1所述的阴井盆盖，其特征在于：该突拱壁还具有一个平壁部，以及一个由该平壁部往下并往周围倾斜的斜壁部，而该排水单元具有数个设在该斜壁部上的所述第一排水孔。
3.根据权利要求2所述的阴井盆盖，其特征在于：该排水单元还具有一个设在该平壁部上且孔径大于所述第一排水孔的孔径的第二排水孔。
4.根据权利要求3所述的阴井盆盖，其特征在于：该围绕壁具有数个所述的侧排孔，每个侧排孔还都具有一个顶缘，而该排水单元介于每个侧排孔的该顶缘及该底缘之间。
5.根据权利要求4所述的阴井盆盖，其特征在于：该围绕壁还具有一个架设孔，该架设孔高于每个侧排孔的该顶缘。
6.根据权利要求1所述的阴井盆盖，其特征在于：该至少一个侧排孔具有一个顶缘，而该排水单元的该第一排水孔介于该至少一个侧排孔的该顶缘及该底缘之间。
7.根据权利要求1至权利要求6中任一权利要求所述的阴井盆盖，其特征在于：该阴井盆盖还包含一个架设在该渗透阴井上方并由该围绕壁突出的架设环壁。
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