[发明专利]一种类金刚石复合薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201710270329.3 | 申请日： | 2017-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN107083536B | 公开（公告）日： | 2019-11-29 |
| 发明（设计）人： | 陈立;吴德生;朱得菊 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司： | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵青朵<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 机械性能 类金刚石复合薄膜 金刚石 复合薄膜 光学特性 制备 耐磨性 高硬度 耐磨 申请 | ||
1.一种类金刚石复合薄膜，其特征在于，包括SiNx膜层和含氢DLC膜层；
其中，0.8≤x≤1.2；
所述SiNx膜层的厚度为6～15nm；
所述类金刚石复合薄膜通过以下制备方法制得：
a)将硅靶材在混合气体环境中进行磁控溅射，在衬底上沉积得到SiNx膜层；
所述混合气体为氩气和氮气；氩气和氮气的体积比为(1～2)：1；
所述磁控溅射的气压为2.5～6.5mTorr；
所述磁控溅射的溅射功率为600～1200W；
b)以石墨为靶材在混合气体环境中进行磁控溅射，在所述SiNx膜层表面沉积形成含氢DLC膜层，得到类金刚石复合薄膜；
所述混合气体为氩气和氢气；氩气与氢气的体积比为(1～3)：1；所述混合气体的气压为2.5～6.5mTorr。
2.根据权利要求1所述的复合薄膜，其特征在于，所述含氢DLC膜层的厚度为3～10nm。
3.一种类金刚石复合薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
a)将硅靶材在混合气体环境中进行磁控溅射，在衬底上沉积得到SiNx膜层；
所述混合气体为氩气和氮气；氩气和氮气的体积比为(1～2)：1；
所述磁控溅射的气压为2.5～6.5mTorr；
所述磁控溅射的溅射功率为600～1200W；
b)以石墨为靶材在混合气体环境中进行磁控溅射，在所述SiNx膜层表面沉积形成含氢DLC膜层，得到类金刚石复合薄膜；
所述混合气体为氩气和氢气；氩气与氢气的体积比为(1～3)：1；所述混合气体的气压为2.5～6.5mTorr。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤a)中，氩气流量为20～60sccm；氮气流量为20～60sccm。
5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤a)中，磁控溅射的工作电压为300～450V。
6.根据权利要求3或5所述的制备方法，其特征在于，所述步骤a)中，磁控溅射的时间为15～45s。
7.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤b)中，氩气流量为25～40sccm，氢气流量为10～20sccm。
8.根据权利要求3或7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤b)中，磁控溅射的工作电压为400～700V；
磁控溅射的溅射功率为5.0～8.0KW，时间为15～45s。
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