[发明专利]一种含有双环己基的氧二氟亚甲基液晶及合成方法在审

专利信息
申请号: 201710278875.1 申请日: 2017-04-25
公开(公告)号: CN107057718A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 肖智勇;张标通;闻建勋;邱绿洲;丁荣文 申请(专利权)人: 福建永晶科技有限公司
主分类号: C09K19/30 分类号: C09K19/30
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31317 代理人: 张宁展
地址: 354001 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 含有 环己基 氧二氟亚 甲基 液晶 合成 方法
【权利要求书】:

1.含有双环己基的氧二氟亚甲基液晶具有如下的结构式:

其中,n=2~10。

2.如权利要求1所述的含有双环己基的氧二氟亚甲基液晶,其特征是其中n=2~6。

3.一种如权利要求1所述的含有双环己基的氧二氟亚甲基液晶的合成方法,其特征是通过下述方法获得:

在60℃~回流温度下和极性有机溶剂中,4([4'-正丙基-反式反式1,1'-双环己基]-4-基)2,6-二氟苯基-二氟溴甲烷A6,3-氟-4-三氟甲基苯酚反应1~4小时;所述的4([4'-正丙基-反式反式1,1'-双环己基]-4-基)2,6-二氟苯基-二氟溴甲烷A6,3-氟-4-三氟甲基苯酚的摩尔比为1:0.2~1:1:~2:1~2。

4.一种如权利要求1所述的含有双环己基的氧二氟亚甲基液晶的合成方法,其特征是所述的极性有机溶剂为乙醇,四氢呋喃,N,N-二甲基甲酰胺。

5.一种如权利要求1所述的含有双环己基的氧二氟亚甲基液晶的合成方法,其特征是反应是在惰性气体保护下进行。

6.一种如权利要求1所述的含有双环己基的氧二氟亚甲基液晶的合成方法,其特征是采用饱和氯化氨溶液进行淬灭。

7.一种如权利要求1所述的含有双环己基的氧二氟亚甲基液晶的合成方法,其特征是反应液用有机溶剂萃取,有机相再用饱和食盐水溶液洗,干燥,旋干,柱层析分离或重结晶进行纯化处理。

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