[发明专利]一种疏水疏油抗污超硬的光学玻璃膜层

权利要求书

1.一种疏水疏油抗污的光学玻璃膜层，其特征在于：依次为基底层、介质层、过渡层、疏水层；其中基底层为玻璃；介质层为相互交替的氧化硅层和氧化锆层，与基底层相邻的是氧化硅层；过渡层由过渡层A和过渡层B组成；其中过渡层A为氟化物，过渡层B为氧化硅或氧化钛，与疏水层相邻的是过渡层B；疏水层为含氟化基团的硅烷基化合物，也是所述光学玻璃膜层的最外层。

2.根据权利要求1所述的一种疏水疏油抗污的光学玻璃膜层，其特征在于：

氟化物具体为氟化镁、氟化镧、氟化铝和氟化铈中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种疏水疏油抗污的光学玻璃膜层，其特征在于：含氟化基团的硅烷基化合物具体为全氟碳酸酯或全氟化聚醚化合物。

4.根据权利要求1所述的一种疏水疏油抗污的光学玻璃膜层，其特征在于：其中氧化硅层厚度为5-40nm，氧化锆层厚度为15-70nm，过渡层A厚度为80-100nm，过渡层B厚度为5-40nm，疏水层厚度为20-50nm。

5.根据权利要求1所述的一种疏水疏油抗污的光学玻璃膜层，其特征在于：所述光学膜层有9±2层。

6.根据权利要求5所述的一种疏水疏油抗污的光学玻璃膜层，其特征在于：所述光学膜层共有9层，依次为氧化硅层1、氧化锆层2、氧化硅层3、氧化锆层4、氧化硅层5、氧化锆层6、过渡层A-7、过渡层B-8，疏水层9。

7.根据权利要求6所述的一种疏水疏油抗污的光学玻璃膜层，其特征在于：其中氧化硅层1的厚度为25-40nm，氧化硅层3的厚度为25-40nm，氧化硅层5的厚度为5-25nm。

8.根据权利要求6所述的一种疏水疏油抗污的光学玻璃膜层，其特征在于：其中氧化锆层2的厚度为10-30nm，氧化锆层4的厚度为50-70nm，氧化锆层6的厚度为50-70nm。

9.根据权利要求1所述的一种疏水疏油抗污的光学玻璃膜层，其特征在于：所述光学玻璃膜层与水的接触角为118度以上，与油滴的接触角为110度以上。

10.一种制备如权利要求1-9所述的一种疏水疏油抗污的光学玻璃膜层的方法，其特征在于：

其中相互交替的氧化硅层和氧化锆层：采用含有离子源的镀膜机在真空状态下进行镀膜，起始真空度为3.0×10^-3Pa，温度为150℃；离子源的加速电压为1000V，屏极电压为900V，中和电流为150A；

过渡层A离子源镀膜条件：离子源的加速电压为300V，屏极电压为300V，中和电流为160A；

过渡层B离子源镀膜条件：离子源加速电压为500V，屏极电压为300V，中和电流为150A；

疏水层是采用真空蒸镀技术：在溅射过渡层B的第1-2min开始，预热镀材10-20秒，电压2-4V；预蒸发30-60秒，电压6-7V；蒸发100-200秒，电压6-8V。