[发明专利]一种用于电子产品制造的晶圆清洗设备有效

专利信息
申请号: 201710282363.2 申请日: 2017-04-26
公开(公告)号: CN107008690B 公开(公告)日: 2019-05-24
发明(设计)人: 朱黎雨;杨超 申请(专利权)人: 朱黎雨
主分类号: B08B3/10 分类号: B08B3/10;B08B13/00;H01L21/02;H01L21/67;F26B21/00
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 于洁
地址: 518000 广东省深圳市龙华区人*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 电子产品 制造 清洗 设备
【说明书】:

发明涉及一种清洗设备,尤其涉及一种用于电子产品制造的晶圆清洗设备。本发明要解决的技术问题是提供一种清洗高效,安全性能高的用于电子产品制造的晶圆清洗设备。为了解决上述技术问题,本发明提供了这样一种用于电子产品制造的晶圆清洗设备,包括有底板、支杆、清洗框、出液管、阀门、支撑架、顶板、升降机构等;底板顶部中间左右对称设有支杆,支杆顶端连接有清洗框,清洗框与底板之间连接有旋转机构,清洗框左壁底部连接有出液管,出液管上设有阀门,底板顶部左右两端均设有支撑架,支撑架顶端安装有顶板,顶板底部中间安装有升降机构,升降机构底部连接有放置框。本发明达到了操作过程简单,安全性高的效果。

技术领域

本发明涉及一种清洗设备,尤其涉及一种用于电子产品制造的晶圆清洗设备。

背景技术

晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆;在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品。晶圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅,其纯度高达99.999999999%。

晶圆表面附着大约2um的Al2O3和甘油混合液保护层,在制作前必须进行化学刻蚀和表面清洗,目前的晶圆清洗过程复杂,化学物品比较危险,因此亟需研发一种清洗高效,安全性能高的用于电子产品制造的晶圆清洗设备。

发明内容

(1)要解决的技术问题

本发明为了克服目前的晶圆清洗过程复杂,化学物品比较危险的缺点,本发明要解决的技术问题是提供一种清洗高效,安全性能高的用于电子产品制造的晶圆清洗设备。

(2)技术方案

为了解决上述技术问题,本发明提供了这样一种用于电子产品制造的晶圆清洗设备,包括有底板、支杆、清洗框、出液管、阀门、支撑架、顶板、升降机构、放置框、隔栏、风干机构和旋转机构,底板顶部中间左右对称设有支杆,支杆顶端连接有清洗框,清洗框与底板之间连接有旋转机构,清洗框左壁底部连接有出液管,出液管上设有阀门,底板顶部左右两端均设有支撑架,支撑架顶端安装有顶板,顶板底部中间安装有升降机构,升降机构底部连接有放置框,放置框内设有隔栏,支撑架内侧中间安装有风干机构。

优选地,升降机构包括有导向板、第一电机、第一转轴、第一轴承座、卷线筒、第二轴承座和拉线,顶板底部左侧安装有导向板,导向板上安装有第一电机,顶板底部中间安装有第一轴承座,顶板底部右侧安装有第二轴承座,第一轴承座和第二轴承座上设有第一转轴,第一转轴左端与第一电机连接,第一转轴上连接有卷线筒,卷线筒位于第一轴承座和第二轴承座之间,卷线筒上绕有拉线,导向板右侧开有导向孔,拉线穿过导向孔,并连接有放置框。

优选地,风干机构包括有第一固定杆、环形滑轨、滑块、安装座、连接杆、风机、第二电机、第二转轴、齿轮、内齿圈和固定杆,左右支撑架内侧中间均安装有固定杆,固定杆末端连接有环形滑轨,环形滑轨上滑动式连接有滑块,滑块内侧连接有安装座,安装座内侧连接有连接杆,安装座内端连接有风机,安装座顶部连接有第二电机,第二电机顶部连接有第二转轴,第二转轴上连接有齿轮,环形滑轨顶部连接有内齿圈,内齿圈与齿轮啮合。

优选地,旋转机构包括有第三电机、第三转轴、第三轴承座、旋转叶片、网板和密封圈,底板顶部右侧安装有第三电机,第三电机位于两个支杆之间,清洗框底部中间设有第三轴承座,第三轴承座上设有第三转轴,第三转轴底端与第三电机连接,第三转轴顶端连接有旋转叶片,清洗框内壁下部安装有网板,网板位于旋转叶片上部,第三轴承座顶部设有密封圈。

优选地,第一电机和第二电机为伺服电机。

优选地,旋转叶片为不锈钢。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于朱黎雨,未经朱黎雨许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710282363.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top