[发明专利]一种减压干燥腔及真空减压干燥设备

说明书

本申请提供了一种减压干燥腔及真空减压干燥设备，用以提高像素内成膜的均一性，本申请提供的一种减压干燥腔，包括：腔室、设置于所述腔室内的承载部件和设置于所述腔室上的抽气孔，还包括设置于所述腔室内的整流装置；所述整流装置包括：面向所述承载部件承载待干燥基板一侧的扩散装置和位于所述扩散装置背向所述承载部件一侧的盖板；所述扩散装置与所述盖板之间通过支撑物连接且存在第一间隙，所述扩散装置中设有均匀分布的垂直所述待干燥基板的多个通孔，所述扩散装置上设有朝向所述承载部件且用于密封所述扩散装置与所述承载部件的密封圈。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种减压干燥腔及真空减压干燥设备。

背景技术

真空减压干燥(Vacuum Dry,VCD)是制作薄膜工艺中的一道重要工序，通常情况下，所呈薄膜是面状薄膜，对真空减压干燥设备要求不高。结合图1、图2所示，现有VCD设备包括腔室01和承载部件02，其中，承载部件02位于腔室01内，将抽气孔03开设在腔室01的底部或者侧面。该VCD设备结构简单，对于满足普通的整面成膜是没有问题的。但是，如果薄膜最终要沉积在像素级尺寸上，由于各像素间存在阻挡层，每个像素的表面张力变成了一个不可忽略的因素，导致现有VCD设备无法保证像素内成膜的均一性，成膜后会出现各种不良(mura)。

基于此，如何提高像素内成膜的均一性，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

本申请实施例提供了一种减压干燥腔及真空减压干燥设备，用以提高像素内成膜的均一性。

本申请实施例提供的一种减压干燥腔，包括：腔室、设置于所述腔室内的承载部件和设置于所述腔室上的抽气孔，还包括设置于所述腔室内的整流装置；所述整流装置包括：面向所述承载部件承载待干燥基板一侧的扩散装置和位于所述扩散装置背向所述承载部件一侧的盖板；所述扩散装置与所述盖板之间通过支撑物连接且存在第一间隙，所述扩散装置中设有均匀分布的垂直所述待干燥基板的多个通孔，所述扩散装置上设有朝向所述承载部件且用于密封所述扩散装置与所述承载部件的密封圈。

本申请实施例提供的减压干燥腔，由于扩散装置与盖板之间存在第一间隙，扩散装置与承载部件通过密封圈密封，且扩散装置中设有均匀分布的垂直待干燥基板的多个通孔，可以使得待干燥基板上挥发出的气体均匀地扩散到第一间隙中，然后通过抽气孔将扩散到第一间隙的气体迅速的抽走，从而不会影响到待干燥基板上像素中的成膜形貌，进而提高像素内成膜的均一性。

较佳地，所述扩散装置包括：面向所述承载部件承载待干燥基板一侧的第一扩散板和位于所述第一扩散板与所述盖板之间的第二扩散板；所述第一扩散板与所述第二扩散板相连，且所述第一扩散板与所述第二扩散板之间存在第二间隙，所述第一扩散板上设有均匀分布的垂直所述待干燥基板的多个第一通孔，所述第二扩散板上设有均匀分布的垂直所述待干燥基板的多个第二通孔，所述密封圈设置在所述第二扩散板上。

通过设置第一扩散板和第二扩散板，第二扩散板、第一扩散板与承载部件通过密封圈密封，并在第一扩散板和第二扩散板上设置均匀分布的垂直待干燥基板的通孔，这样可以逐级改变待干燥基板上挥发出的气体的均匀性，使得待干燥基板上挥发出的气体均匀地扩散到第一间隙中，且使得扩散的气体的扩散方向尽可能地保持垂直待干燥基板，从而使得挥发出的气体的扩散速度尽可能地一致，进而提高像素内成膜的均一性。

较佳地，所述第二扩散板的厚度大于所述第一扩散板的厚度。

由于第二扩散板的厚度大于第一扩散板的厚度，使得扩散的气体的扩散方向尽可能地保持垂直待干燥基板，从而使得挥发出的气体的扩散速度尽可能地一致，进而提高像素内成膜的均一性。

较佳地，所述第二通孔的孔径大于所述第一通孔的孔径。

由于第二通孔的孔径大于第一通孔的孔径，这样可以加快气体流速，从而减少真空减压干燥处理时间，进而可以缩短生产周期，增加产量。