[发明专利]具有荧光效应的碳纳米点光刻胶及其成像方法

权利要求书

1.具有荧光效应的碳纳米点光刻胶，其特征在于，包括：

a，用于电子束下自交联的含糖聚合物，其侧链具有糖环；

b，溶剂：水,

其中，

所述电子束的电压为5kV～30kV、工作距离为5mm～20mm、光阑为5μm-30μm、曝光剂量为1000～10000μC/cm²，

所述含糖聚合物的结构如下：

其中，R₁：H、─CH₃；

R₂或者R₃：H、─CH₃，

R₄：糖环；

X：O、CH₂、─CO─、─CO─NH─、

R₅：H、─CH₃；

R₆或R₇：H、─CH₃，

R₈：─COOH、

所述含糖聚合物的分子量为800-1000000。

2.根据权利要求1所述的具有荧光效应的碳纳米点光刻胶，其特征在于：所述含糖聚合物与水的质量比为1：10～1000000。

3.根据权利要求1～2任意一项所述的具有荧光效应的碳纳米点光刻胶的成像方法，其特征在于，包括步骤：(1)将含糖聚合物溶于水，制得含糖聚合物光刻胶溶液；(2)将所述光刻胶溶液铺在待处理基板表面，做成电子束光刻胶薄膜；(3)用电压为5kV～30kV、工作距离为5mm～20mm、光阑为5μm-30μm、曝光剂量为1000～10000μC/cm²的电子束进行电子束曝光，在电子束的作用下，曝光区域发生自交联，使得所述曝光区域的含糖聚合物发生交联而不溶于水；并且在电子束曝光的位置形成纳米级的碳点；(4)将其放到300-800nm波长范围的波长光源下，具有荧光效应。

4.根据权利要求3所述的具有荧光效应的碳纳米点光刻胶的成像方法，其特征在于，步骤(1)中，所述含糖聚合物光刻胶溶液的浓度为0.1mg/L～100g/L。

5.根据权利要求3所述的具有荧光效应的碳纳米点光刻胶的成像方法，其特征在于，步骤(2)中，将所述光刻胶溶液铺在待处理基板表面的方法为旋涂法或滴涂法中的任意一种，所述基板为硅片、ITO玻璃、表面具有金膜镀层的石英片、表面具有银膜镀层的SiO₂片中的任意一种。

6.根据权利要求3所述的具有荧光效应的碳纳米点光刻胶的成像方法，其特征在于，步骤(4)中，含糖聚合物薄膜在曝光点处形成碳纳米点，碳纳米点具有对应的量子荧光效应，在其对应波长紫外或可见光的激发下，产生荧光。