[发明专利]一种一步法激光还原制备异质结构功能石墨烯薄膜的方法有效
| 申请号： | 201710288821.3 | 申请日： | 2017-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN107161990B | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | 潘凯;贾进;孙恺 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C01B32/19 | 分类号： | C01B32/19 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 张立改 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 一步法 激光 还原 制备 结构 功能 石墨 薄膜 方法 | ||
1.一种一步法激光还原制备异质结构功能石墨烯薄膜的方法，其特征在于，包括以下：
(1)以石墨粉为原料制备片层氧化石墨烯，离心后，配置氧化石墨烯溶液；
(2)利用步骤(1)的氧化石墨烯溶液，采用成膜方法制备具有一定厚度的氧化石墨烯薄膜；
(3)用液体对步骤(2)中的氧化石墨烯薄膜两侧进行浸润；
(4)将(3)中得到的已浸润氧化石墨烯薄膜一侧平铺于光滑耐热的基板上，用透明耐热的玻片平铺于氧化石墨烯薄膜另一侧上面；
(5)用激光器对步骤(4)得到的薄膜组合进行激光扫描还原，一步法制得异质结构的功能石墨烯薄膜；
步骤(5)激光器对透明耐热的玻片一侧进行激光扫描后，激光扫描后其扫描一侧或部分为还原氧化石墨烯，另一侧或没扫描的为氧化石墨烯，从而形成异质结构。
2.按照权利要求1所述的一种一步法激光还原制备异质结构功能石墨烯薄膜的方法，其特征在于，步骤(1)所述的氧化石墨烯制备方法为改进的hummers法，石墨粉尺寸为40-80目，氧化石墨烯溶液浓度为0.1-10mg/mL。
3.按照权利要求1所述的一种一步法激光还原制备异质结构功能石墨烯薄膜的方法，其特征在于，步骤(2)中制备的氧化石墨烯薄膜的厚度大于10-30μm。
4.按照权利要求1所述的一种一步法激光还原制备异质结构功能石墨烯薄膜的方法，其特征在于，步骤(3)中所述的液体为质子性溶剂或非质子极性溶剂。
5.按照权利要求1所述的一种一步法激光还原制备异质结构功能石墨烯薄膜的方法，其特征在于，步骤(4)中所述的基板为硅片、石英基底、聚四氟乙烯板材；所述的透明耐热玻片为石英玻璃。
6.按照权利要求1所述的一种一步法激光还原制备异质结构功能石墨烯薄膜的方法，其特征在于，激光器(5)可根据需要扫描不同的路径，得到不同结构或形状的异质结构。
7.按照权利要求1-6任一项方法制备得到的异质结构功能石墨烯薄膜。
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