[发明专利]阵列基板以及制作方法、OLED器件及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：衬底基板、设置于所述衬底基板上的像素界定层和电极；所述像素界定层将所述衬底基板划分为多个子像素区域，所述多个子像素区域排列成多行，每个所述子像素区域内均布置有所述电极；

相邻两行所述子像素区域之间的所述像素界定层上设置有凹槽，所述凹槽的底部至所述衬底基板的距离大于所述子像素区域内电极的上表面至所述衬底基板的距离，所述凹槽与相邻两行所述子像素区域中的至少两个同一颜色的子像素区域连通，每个与所述凹槽连通的子像素区域的像素界定层上设置有连通所述凹槽和所述子像素区域的缺口；

所述多个子像素区域包括红色子像素区域、绿色子像素区域和蓝色子像素区域，其中，所述红色子像素区域和所述绿色子像素区域分别与不同的所述凹槽连通；

所述凹槽包括位于相邻两行所述子像素区域之间的长条形的第一凹槽和位于多行所述子像素区域两侧的两个长条形的第二凹槽，每个所述第一凹槽连通与之相邻的两行所述子像素区域中的红色子像素区域或者绿色子像素区域，且相邻两个所述第一凹槽连通不同颜色的子像素区域，所述第二凹槽连通未被所述第一凹槽连通的红色子像素区域或者绿色子像素区域。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽的底部的材料与用于形成所述子像素区域内的有机发光层的有机墨水的极性相反。

3.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽的底部至所述衬底基板的距离与所述子像素区域内电极的上表面至所述衬底基板的距离之差为1μm-2μm。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽的宽度大于所述子像素区域的宽度，所述子像素区域的宽度为所述子像素区域在行方向上的宽度，所述行方向为一行所述子像素区域的排布方向。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述缺口的宽度等于所述子像素区域的宽度。

6.一种有机电致发光显示器件，其特征在于，所述有机电致发光显示器件包括如权利要求1-5任一项所述的阵列基板。

7.根据权利要求6所述的有机电致发光显示器件，其特征在于，所述有机电致发光显示器件还包括绿色有机发光层、红色有机发光层和蓝色有机发光层，其中，所述绿色有机发光层、所述红色有机发光层和所述蓝色有机发光层中的至少一种通过将有机墨水滴入凹槽的方式制作而成。

8.根据权利要求7所述的有机电致发光显示器件，其特征在于，所述绿色有机发光层和所述红色有机发光层设置在所述子像素区域内，所述蓝色有机发光层为设置在所述绿色有机发光层和所述红色有机发光层之上的共用的蓝色有机发光层。

9.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求6-8任一项所述的有机电致发光显示器件。