[发明专利]一种光触媒膜、其制备方法及应用

权利要求书

1.一种光触媒膜，其特征在于，所述光触媒膜设置于基材上，所述光触媒膜包括多孔材料层和二氧化钛光触媒层，所述二氧化钛光触媒层设置于所述多孔材料表层内部和/或所述多孔材料的表面；

所述基材优选透明材料，更优选玻璃或者树脂，所述树脂优选PC、PMMA、PS。

2.根据权利要求1所述的光触媒膜，其特征在于，所述光触媒膜包括多孔材料层和位于所述多孔材料内部的光触媒渗透层；

或，所述光触媒膜包括位于所述多孔材料内部的光触媒渗透层；

所述光触媒渗透层通过二氧化钛光触媒材料分布于所述多孔材料层内的空隙中形成；

优选的，所述多孔材料表面还设置有光触媒表面层。

3.根据权利要求1所述的光触媒膜，其特征在于，所述多孔材料层的原料选自介孔材料或大孔材料，并优选介孔材料，所述介孔材料优选硅藻土介孔材料、磷灰石介孔材料。

4.根据权利要求1所述的光触媒膜，其特征在于，所述多孔材料层的厚度为200～250μm。

5.根据权利要求1所述的光触媒膜，其特征在于，所述二氧化钛光触媒层的厚度为200～400μm，优选250～350μm。

6.根据权利要求1所述的光触媒膜，其特征在于，所述光触媒膜为可见光触发型二氧化钛光触媒，选自硫化镉掺杂的二氧化钛、三氧化钨掺杂的二氧化钛、氮取代型氧化钛、缺氧型二氧化钛、贵金属修饰型二氧化钛；优选氮取代型氧化钛、缺氧型二氧化钛。

7.如权利要求1～6任一权利要求所述的光触媒膜的制备方法，其特征在于，至少包括以下步骤：

(1)对所述基材表面进行预处理，所述预处理优选采用低温等离子处理，优选的，处理时间为4～10min，更优选5～6min。

(2)在所述基材表面制备所述多孔材料层；

(3)将二氧化钛光触媒负载于所述多孔材料层上，即得所述光触媒膜。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，将多孔材料配制成水乳液，喷涂于所述基材表面，所述多孔材料的粒径优选为40～100nm，更优选50～70nm；所述水乳液的质量百分比浓度为2～15wt％，优选5～10％。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，将光触媒材料配置成乳液，采用喷涂法或提拉法在所述多孔材料层上进行负载，所述光触媒材料的粒径优选为10～30nm，更优选10～15nm；所述乳液的质量百分比浓度为1～10％。

10.一种照明设备，所述照明设备上具有被权利要求1～6所述的光触媒膜覆盖的部位。

11.如权利要求10所述的照明设备在冷藏设备中的应用。