[发明专利]光源装置和投影仪

说明书

光源装置和投影仪。可在不使用缩小倍率较大的远焦系统的情况下缩小光线束的宽度避免会聚透镜的大型化。光源装置具有包含射出第1光线束的第1区域和射出第2光线束的第2区域光源部、在第1光线束的光路上从光源部侧起按顺序设置的波长分离元件、第1会聚光学系统和波长转换元件、在第2光线束的光路上从光源部侧起按顺序设置的波长选择性偏振元件、第1相位差元件、第2会聚光学系统和反射元件。由反射元件反射的第2光线束依次透过第2会聚光学系统和第1相位差元件并由波长选择性偏振元件反射。从波长转换元件射出的荧光依次入射到第1会聚光学系统、波长分离元件、波长选择性偏振元件。波长选择性偏振元件以与荧光的偏振状态无关的方式使荧光透过。

技术领域

本发明涉及光源装置和投影仪。

背景技术

近年来，作为投影仪中使用的光源装置的光源，得到高亮度且高输出的光的半导体激光器受到关注。伴随高亮度化，当半导体激光器的数量增加时，光束宽度增大，所以，会聚透镜的口径增大。会聚透镜的大型化导致光源装置的大型化、材料的成本上升。

因此，例如，在下述专利文献1中公开了如下的投影仪用的光源装置：具有二维地排列了多个半导体激光器的阵列光源、以及远焦光学系统，该远焦光学系统由凸透镜和凹透镜构成，对从该阵列光源射出的光线束的宽度进行调整。

专利文献1：日本特开2012-137744号公报

发明内容

发明要解决的课题

但是，在安装半导体激光器的情况下，可能在校准中产生稍许的偏差(安装误差)，但是，在上述远焦光学系统中，缩小倍率越大，越容易受到安装误差的影响。

本发明是鉴于这种情况而完成的，其目的在于，提供能够在不使用缩小倍率较大的远焦系统的情况下缩小光线束的宽度从而避免会聚透镜的大型化的光源装置和投影仪。

用于解决课题的手段

根据本发明的第1方式，提供一种光源装置，其具有：光源部，其具有多个发光元件，包含射出第1光线束的第1区域和射出第2光线束的第2区域；在所述第1光线束的光路上从所述光源部侧起按顺序设置的波长分离元件、第1会聚光学系统和波长转换元件；以及在所述第2光线束的光路上从所述光源部侧起按顺序设置的波长选择性偏振元件、第1相位差元件、第2会聚光学系统和反射元件，由所述反射元件反射的所述第2光线束依次透过所述第2会聚光学系统和所述第1相位差元件，由所述波长选择性偏振元件反射，从所述波长转换元件射出的荧光依次入射到所述第1会聚光学系统、所述波长分离元件、所述波长选择性偏振元件，所述波长选择性偏振元件以与所述荧光的偏振状态无关的方式使所述荧光透过

第1方式的光源装置能够将光源部的光射出区域划分成2个区域，通过第1会聚光学系统将一方的光(第1光线束)引导至波长转换元件，通过第2会聚光学系统将另一方的光(第2光线束)引导至反射元件。入射到第1会聚光学系统的第1光线束的宽度和入射到第2会聚光学系统的第2光线束的宽度比合并第1光线束和第2光线束而得到的光线束的宽度小，所以，能够采用有效直径较小的透镜作为第1会聚光学系统和第2会聚光学系统。由此，能够使第1会聚光学系统和第2会聚光学系统小型化。

在上述第1方式中，优选所述第2光线束包含由所述波长选择性偏振元件朝向所述波长分离元件反射的激励用成分，所述波长分离元件还具有针对所述第1光线束的波段的光的偏振分离功能，对所述第1光线束和由所述波长选择性偏振元件反射的所述激励用成分进行合成。

根据该结构，能够利用第2光线束的一部分作为对波长转换元件进行激励的激励光。

在上述第1方式中，优选所述光源装置还具有设置在所述光源部与所述波长选择性偏振元件之间的所述第2光线束的光路上的第2相位差元件，所述第2相位差元件的光轴的方向可变。