[发明专利]玻璃边缘研磨设备在审
申请号: | 201710296843.4 | 申请日: | 2017-04-28 |
公开(公告)号: | CN106926084A | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 党张伟;张海博;王江涛;刘荣辉;曹斌 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | B24B9/10 | 分类号: | B24B9/10;B24B41/02;B24B41/06;B24B41/00 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人: | 黄德海 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 边缘 研磨 设备 | ||
1.一种玻璃边缘研磨设备,其特征在于,包括:
底座;
中心基台,所述中心基台设在所述底座上且适于吸附待研磨玻璃板;
边沿基台,所述边沿基台沿所述待研磨玻璃板的研磨方向可滑动地设在所述底座上,所述待研磨玻璃板适于支撑在所述边沿基台上;
用于对所述待研磨玻璃板的边沿进行研磨的研磨组件,所述研磨组件设在所述边沿基台上且随所述边沿基台一同移动;
水平衡装置,所述水平衡装置设在所述边沿基台上且随所述边沿基台一同移动,所述水平衡装置上设有用于喷出驱使所述待研磨玻璃板贴合所述边沿基台的流体的水平衡喷嘴。
2.根据权利要求1所述的玻璃边缘研磨设备,其特征在于,所述水平衡装置上设有水平衡基台,所述待研磨玻璃板位于所述水平衡基台和所述边沿基台之间,所述水平衡喷嘴设在所述水平衡基台上。
3.根据权利要求2所述的玻璃边缘研磨设备,其特征在于,所述水平衡喷嘴为多个且在所述水平衡基台上阵列排布。
4.根据权利要求2所述的玻璃边缘研磨设备,其特征在于,所述水平衡基台与所述待研磨玻璃板间隔设置。
5.根据权利要求2所述的玻璃边缘研磨设备,其特征在于,所述水平衡基台和所述边沿基台靠近所述研磨组件的一端均设有用于避让所述研磨组件的避让倒角。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的玻璃边缘研磨设备,其特征在于,所述待研磨玻璃板沿水平方向定向,所述边沿基台沿水平方向可移动地设在所述底座上,所述水平衡装置位于所述待研磨玻璃板的上方且所述水平衡喷嘴向下喷射流体。
7.根据权利要求1所述的玻璃边缘研磨设备,其特征在于,所述边沿基台为两个且分别位于所述待研磨玻璃板的两侧,所述研磨组件为两个且分别安装在两个所述边沿基台上,所述水平衡装置为两个且分别安装在两个所述边沿基台上。
8.根据权利要求1所述的玻璃边缘研磨设备,其特征在于,所述研磨组件包括:
刀轮马达,所述刀轮马达安装在所述边沿基台上;
研磨刀轮,所述研磨刀轮安装在所述刀轮马达的电机轴上。
9.根据权利要求8所述的玻璃边缘研磨设备,其特征在于,每个所述研磨组件包括沿上下方向排列的两个刀轮马达和两个研磨刀轮,两个所述研磨刀轮分别安装在两个所述刀轮马达上。
10.根据权利要求1所述的玻璃边缘研磨设备,其特征在于,所述中心基台通过真空吸附所述待研磨玻璃板。
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