[发明专利]一种面状曝光系统及曝光部件在审

专利信息
申请号: 201710300864.9 申请日: 2017-05-02
公开(公告)号: CN106873317A 公开(公告)日: 2017-06-20
发明(设计)人: 霍永峰 申请(专利权)人: 成都恒坤光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 四川力久律师事务所51221 代理人: 王芸,庞启成
地址: 610200 四川省成都市双*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 曝光 系统 部件
【权利要求书】:

1.一种面状曝光系统,其特征在于:包括光源组件,所述光源组件在曝光面内形成有面状光斑,所述光源组件存在有至少一条移动轨迹,以及存在有至少一个曝光行程,所述面状光斑对应的照射区域中存在有至少一个有效曝光区域,当所述光源组件沿所述移动轨迹移动一个所述曝光行程时,所述有效曝光区域内的任意一点或任意一区域的光照能量积分,积分后在有效曝光区域内任意一点或任意一区域的光照能量积分差值小于10%。

2.根据权利要求1所述的面状曝光系统,其特征在于:所述光源组件沿所述移动轨迹移动一个所述曝光行程时,所述有效曝光区域始终处于被照射状态。

3.根据权利要求2所述的面状曝光系统,其特征在于:所述光源组件包括有若干个光源单元,每一个所述光源单元在所述曝光面上都形成有一个光斑单元,相邻的所述光斑单元依次拼接或部分重叠或间隙配合的形成所述面状光斑。

4.根据权利要求3所述的面状曝光系统,其特征在于:所述光源组件还包括有若干个用于调整光源单元发出光线的光学透镜,每一个所述光源单元与一个光学透镜配合。

5.根据权利要求4所述的面状曝光系统,其特征在于:相邻所述光源单元光轴之间的距离为L,当各个光源单元形成的光斑单元之间为间隙配合时,相邻光斑单元之间的距离小于0.1L。

6.根据权利要求3-5任意一项所述的面状曝光系统,其特征在于:所述光源单元的规格和型号相同,所述光学透镜的尺寸和材质相同。

7.根据权利要求3-5任意一项所述的面状曝光系统,其特征在于:所有光源单元为均布设置。

8.根据权利要求3-5任意一项所述的面状曝光系统,其特征在于:所述光斑单元的形状为长方形、正方形或者正六边形。

9.根据权利要求3-5任意一项所述的面状曝光系统,其特征在于:所述光斑单元之间的配合部位相互错开布置。

10.根据权利要求3-5任意一项所述的面状曝光系统,其特征在于:所述光源单元为波长从200纳米到420纳米的紫外LED光源。

11.一种曝光部件,其特征在于:包括驱动部件和权利要求1-10任意一项所述的面状曝光系统,所述驱动部件用于驱动所述面状曝光系统沿所述移动轨迹移动。

12.根据权利要求11所述的曝光部件,其特征在于:当所述光斑单元的形状为正方形或者长方形时,所述移动轨迹与所述光斑单元的对角线方向相平行,所述曝光行程等于或者大于一个光斑单元的对角线长度。

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