[发明专利]正型感光性树脂组合物和由其制造的绝缘膜有效
申请号: | 201710303827.3 | 申请日: | 2017-05-03 |
公开(公告)号: | CN107340686B | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
发明(设计)人: | 任玟柱;金径录;赵庸桓 | 申请(专利权)人: | 东友精细化工有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/039;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人: | 石宝忠 |
地址: | 韩国全*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 树脂 组合 制造 绝缘 | ||
本发明涉及正型感光性树脂组合物和由其制造的绝缘膜,更详细地说,正型感光性树脂组合物,其特征在于,包含粘结剂树脂,该粘结剂树脂包含:(a‑1)将酚性羟基或羧基的至少一部分用酸分解性基团保护的树脂、(a‑2)含有甲硅烷基醚基的丙烯酸系树脂和(a‑3)含有环氧基的丙烯酸系树脂。
技术领域
本发明涉及获得密合性和均一性优异的绝缘膜的正型感光性树脂组合物和由其制造的绝缘膜。
背景技术
在薄膜晶体管(TFT,Thin Film Transistor)型液晶显示装置等显示装置中,作为用于保护TFT电路及使其绝缘的保护膜,以往使用了硅的氮化物等的无机系保护膜,但存在介电常数值高、难以提高开口率的问题,为了克服这点,对介电常数低的有机绝缘膜的需求倾向增加。
作为这样的有机绝缘膜,一般使用感光性树脂,该感光性树脂是利用光和电子束进行化学反应、从而对于特定溶剂的溶解度发生变化的高分子化合物,电路图案的微细加工采用由上述有机绝缘膜的光反应引起的高分子的极性变化和交联反应。特别地,上述有机绝缘膜材料利用了曝光后对于碱水溶液等溶剂的溶解性的发生变化的特性。
根据感光的部分对于显影的溶解度,上述有机绝缘膜分类为正型和负型。正型光致抗蚀剂是曝光的部分被显影液溶解而形成图案的方式,负型光致抗蚀剂是曝光的部分没有被显影液溶解、没有曝光的部分被溶解而形成图案的方式。
其中,就正型有机绝缘膜而言,通过使用碱水溶液,能够避免使用在负型有机绝缘膜中使用的有机显影液,因此不仅在作业环境方面有利,而且在理论上能够防止没有暴露于紫外线的部分的溶胀现象,因此具有提高分辨率的优点。另外,在有机膜形成后,容易实现采用剥离液进行的除去,在工序中产生不良面板时,通过除去有机膜,具有基板回收和再使用性得到进一步提高的优点。
特别地,用这样的有机绝缘膜构成液晶显示装置的绝缘膜等时,上述绝缘膜的绝缘性当然必须是优异的,在基板上涂布时,为了在界面处使应力减小,必须具有低的热膨胀性,在物理上必须具有强韧的特性,感度、透射率等必须优异。
但是,存在如下的问题:为了提高有机绝缘膜与基板的密合性,在工序中用六甲基二硅氮烷等在基板上进行处理,此时需要诸如六甲基二硅氮烷处理等额外工序。
专利文献1涉及正型感光性有机无机混合绝缘膜组合物,其包含硅氧烷低聚物化合物。但是,上述现有文献为利用了醌二叠氮化合物的正型感光性树脂组合物,具有感度低的缺点。
另外,专利文献2涉及正型感放射线性组合物,显示元件用层间绝缘膜及其形成方法,使用水解缩合物作为水解性硅烷化合物的硅氧烷聚合物。但是,上述现有文献具有高感度化难的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:韩国公开专利第10-2010-0066808号公报
专利文献2:韩国注册专利第10-1404005号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明的目的在于提供通过包含特定的粘结剂树脂从而特别是在硅的氮化物(SiNx)膜上的密合性和均一性变得优异的正型感光性树脂组合物和由其制造的绝缘膜。
用于解决课题的手段
为了实现上述目的,根据本发明的正型感光性树脂组合物,其特征在于,包含粘结剂树脂,该粘结剂树脂包含:(a-1)将酚性羟基或羧基的至少一部分用酸分解性基团保护的树脂、(a-2)含有甲硅烷基醚基的丙烯酸系树脂和(a-3)含有环氧基的丙烯酸系树脂。
另外,本发明的目的在于包含用上述正型感光性树脂组合物制造的绝缘膜。
发明的效果
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