[发明专利]一种用于溶液法制备有机半导体器件的缓冲层墨水在审
| 申请号： | 201710306069.0 | 申请日： | 2017-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN109233440A | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 李盛夏;郝琳 | 申请（专利权）人： | 上海幂方电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C09D11/30 | 分类号： | C09D11/30;C09D11/38;C09D11/36;C09D11/102;C09D11/03;C09D11/033;C09D163/00;C09D165/00;C09D7/20;C09D7/63;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京臻之知识产权代理有限公司 11629 | 代理人： | 周丽莉 |
| 地址： | 201612 上海市松江*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 有机半导体器件 溶液法制备 缓冲层 墨水 导电物质 交联效果 交联剂 阻挡 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于溶液法制备有机半导体器件的缓冲层墨水，其中包含溶剂、PFN和150AB胶以及添加剂，其特征在于其中溶剂是无水甲醇、无水乙醇、正丁醇、甲氧基乙醇中的一种或几种，添加剂是异丙醇和/或乙二醇。
2.权利要求1所述的墨水，其特征在于，其中还包含冰醋酸、乙酸、甲酸中的一种或几种作为添加剂。
3.权利要求2所述的墨水，其特征在于，酸类添加剂与醇类添加剂的体积比为0.01-0.1。
4.权利要求3的墨水，其特征在于，PFN和150A质量比为0.1-0.25。
5.权利要求3或4的墨水，其特征在于，150A和150B的质量比为2:1。
6.权利要求1-5种任意一项的缓冲层墨水的制备方法，包括如下步骤：
(1)将PFN，150A，150B分别与溶剂混合；
(2)将步骤(1)种的三种混合溶液混合在一起。
7.权利要求6所述的方法，其特征在于，其中混合方式是加热、搅拌或超声中的一种。
8.权利要求1-5中任意一项所述的墨水的用途，其特征在于，用于有机发光二极管、有机发光电池或太阳能电池的制备。
9.一种制备采用溶液法有机发光二极管，有机发光电池或太阳能电池的方法，其特征在于，采用权利要求1-5所述的墨水并结合旋涂或刮涂工艺来制备缓冲层。
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