[发明专利]一种抗指纹剂及其制备方法

权利要求书

1.一种抗指纹剂，该抗指纹剂的组成为0.1％-20％总重量的全氟聚醚硅烷和80％-99.9％的溶剂，其特征在于：所述的全氟聚醚硅烷结构式如下：

F-(C₂F₄O)_i(CF₂O)_kCF₂CH₂O(CH₂)_mSiCH₃(CH₂CH₂Si(OCH₃)₃)₂ SC-2

其中，i，k为分别独立数字，为0以上、200以下的整数，i，k的和大于等于1，带有i，k并用括弧括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；m≥1，且m为整数。

2.如权利要求1所述的抗指纹剂，其特征在于：所述的溶剂为全氟丁基甲基醚、全氟丁基乙基醚、全氟己基甲基醚、全氟辛烷、氢氟醚中任意一种。

3.一种制备权利要求1所述的抗指纹剂的方法，其特征在于：包括以下步骤：

1)全氟聚醚醇F-(C₂F₄O)_i(CF₂O)_kCF₂CH₂OH与X-(CH₂)_mSiCH₃(CH＝CH₂)₂进行取代反应制备全氟聚醚硅二烯

F-(C₂F₄O)_i(CF₂O)_kCF₂CH₂O(CH₂)_mSiCH₃(CH＝CH₂)₂；

2)全氟聚醚硅二烯F-(C₂F₄O)_i(CF₂O)_kCF₂CH₂O(CH₂)_mSiCH₃(CH＝CH₂)₂与三甲氧基硅烷进行氢硅加成制备全氟聚醚硅烷

F-(C₂F₄O)_i(CF₂O)_kCF₂CH₂O(CH₂)_mSiCH₃(CH₂CH₂Si(OCH₃)₃)₂；

3)占总重量0.1％-20％的全氟聚醚硅烷

F-(C₂F₄O)_i(CF₂O)_kCF₂CH₂O(CH₂)_mSiCH₃(CH₂CH₂Si(OCH₃)₃)₂与占总重量80％-99.9％的溶剂混合均匀，获得抗指纹剂，

其中，i，k为分别独立数字，为0以上、200以下的整数，i，k的和大于等于1，带有i，k并用括弧括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；X为卤素原子，m≥1，且m为整数。

4.如权利要求3所述的抗指纹剂的制备方法，其特征在于：所述的溶剂为全氟丁基甲基醚、全氟丁基乙基醚、全氟己基甲基醚、全氟辛烷、氢氟醚中任意一种。

5.一种通过涂布权利要求1所述的抗指纹剂获得的薄膜。