[发明专利]阵列基板、液晶显示面板及液晶显示装置在审
申请号: | 201710311729.4 | 申请日: | 2017-05-05 |
公开(公告)号: | CN106918970A | 公开(公告)日: | 2017-07-04 |
发明(设计)人: | 郭远 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1343 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 | 代理人: | 吴大建,张杰 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 液晶显示 面板 液晶 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板、液晶显示面板及液晶显示装置。
背景技术
近年来,低温多晶硅(LTPS,Low Temperature Poly-silicon)技术不断发展。采用低温多晶硅技术来生产液晶面板,有利于提高面板开口率,使显示器亮度提升、耗电降低。因而低温多晶硅技术适用于生产更轻薄、低耗电、高分辨率的产品。由于产品分辨率不断提升,单位面板内的像素数量不断增加,因此单位面板内的数据线的条数也随之不断增加。在现有技术中,在不改变穿透率的情况下,设计者只有通过不断降低各个数据线之间的间距来增加数据线的数量。以分辨率为1920*1080的显示面板为例,在极其狭小的外围布线区域内需同时排布1080条数据线。而数据线间距的不断减小大大增加了静电释放(ESD,Electro-Static discharge)发生的概率,对产品的功能及品质造成严重影响。
在现有技术中,第一种改善外围布线区域静电释放的方案为增大外围布线区域,由此可以稍微扩大各数据线之间的间距。然而,该方案会增加图案分布的排版分布。第二种改善外围布线区域静电释放的方案为减小各个数据线的整体线宽,由此可以加宽各数据线之间的间距。然而,该方案会影响数据信号的阻抗,从而对产品性能造成影响。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种阵列基板、液晶显示面板及液晶显示装置。
根据本发明的第一个方面,提供了一种阵列基板,包括位于非显示区域内的多条彼此平行的数据引线;其中,每条数据引线包括:
设置在第一金属层的、间隔排列的多段第一引线;以及
设置在第二金属层的、间隔排列的多段第二引线;
其中,所述第一金属层和所述第二金属层之间设置有具有第一过孔的第一绝缘层;
隶属于同一条数据引线的第一引线和第二引线通过所述第一过孔串联成该数据引线;并且,针对平行于所述数据引线的平面,相邻两条数据引线的第一引线在该平面的投影交替排列,相邻两条数据引线的第二引线在该平面的投影交替排列。
在一个实施例中,所述第一引线与所述第二引线的线宽相同。
在一个实施例中,还包括位于显示区域的、与所述多条数据引线一一对应连接的多条数据线。
在一个实施例中,所述第一引线与扫描线均位于所述第一金属层,所述第二引线与所述数据线均位于所述第二金属层。
在一个实施例中,所述第一引线与扫描线均位于所述第二金属层,所述第二引线与所述数据线均位于所述第一金属层。
在一个实施例中,所述第一引线与所述第二引线的材料为:
铜、铝、钼;或者
由铜、铝和钼中的两种或三种制成的合金。
在一个实施例中,还包括:
形成于所述第二金属层上的、具有第二过孔的第二绝缘层;以及
形成于所述第二绝缘层上的像素电极层;
所述数据引线通过所述第二过孔与所述像素电极层相连通。
在一个实施例中,所述像素电极层的材料为以下任一材料:氧化铟锡、氧化铟锌和氧化锡。
根据本发明的第二个方面,提供了一种液晶显示面板,包括:
上述阵列基板;
彩膜基板;以及
形成于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层。
根据本发明的第三个方面,提供了一种液晶显示装置,包括上述液晶显示面板。
与现有技术相比,上述方案中的一个或多个实施例可以具有如下优点或有益效果:
应用本发明实施例提供的阵列基板,其布线区域的每条数据引线由多段第一引线和多段第二引线电性连接而成。多段第一引线位于第一金属层,且间隔排列。多段第二引线位于第二金属层,且间隔排列。每条数据引线以列方式排列,每段第一引线和第二引线以行方式排列。在第一金属层,奇数列数据引线中的多段第一引线分布于其所属的数据引线的奇数行,偶数列数据引线中的多段第一引线分布于其所属的数据引线的偶数行。在第二金属层,奇数列数据引线中的多段第二引线分布于其所属的数据引线的偶数行,偶数列数据引线中的多段第二引线分布于其所属的数据引线的奇数行。使得相邻两条第一引线所属的数据引线在第一金属层的引线间距增加一倍,相邻两条第二引线所属的数据引线在第二金属层的引线间距增加一倍。因此,本发明能够在不增加布线区域及不改变数据引线线宽的前提下增加相邻两条第一引线/第二引线所属的数据引线在同一金属层的间距。
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