[发明专利]预防外露的耳廓支架的建模方法、制造方法及耳廓支架

权利要求书

1.一种预防外露的耳廓支架建模方法，其特征在于：具体包括以下步骤：

步骤1、收集已雕刻且未被植入皮下的耳廓支架的轮廓特征数据；

步骤2、对步骤1中获取的所述轮廓特征数据进行网格分化；

步骤3、将步骤2中得到的网格分化后的数据结合支架材料特性参数以及皮肤特性参数进行有限元应力分析；

步骤4、根据步骤3中所述有限元应力分析的结果，对搭建所述支架后的第3天、第3个月、第6个月时该支架的应力集中部位进行模拟分析，确定易发生破溃的部位；

步骤5、与临床病例资料数据对比，将耳廓支架结构上对应的易发生破溃的部位进行调整和雕刻，预防所述耳廓支架因应力集中外露。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤1中所述的轮廓特征数据为通过激光扫描仪获取的点云数据。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤2中进行的所述网格分化采用0.3mm～0.5mm的网格。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤2中进行的所述网格分化采用HyperMesh软件执行。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤3中的所述支架材料特性参数包括密度、弹性模量、泊松比，所述皮肤特性参数包括密度、弹性模量。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述步骤3中进行的所述有限元应力分析采用Abaqus软件执行。

7.如权利要求7所述的方法，其特征在于：在所述步骤4中，进行模拟负压引流以验证所确定的易发生破溃部位的准确性，施加负压范围为0.02MPA—0.0MPA。

8.一种预防外露的耳廓支架制造方法，其特征在于：其基于如权利要求1-7任一项所述的一种预防外露的耳廓支架建模方法进行雕刻。

9.一种耳廓支架，其特征在于：其基于如权利要求1-7任一项所述的一种预防外露的耳廓支架建模方法制造。