[发明专利]利用测井曲线对构造进行精细校正的方法有效

专利信息
申请号: 201710313306.6 申请日: 2017-05-05
公开(公告)号: CN107132588B 公开(公告)日: 2019-09-24
发明(设计)人: 何嘉;陈小强;唐家琼;唐谢;陈丽清 申请(专利权)人: 中国石油集团川庆钻探工程有限公司
主分类号: G01V13/00 分类号: G01V13/00;E21B49/00
代理公司: 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 代理人: 冉鹏程
地址: 610051 四川省成都市*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 利用 测井 曲线 构造 进行 精细 校正 方法
【权利要求书】:

1.一种利用测井曲线对构造进行精细校正的方法,其特征在于步骤如下:

a、收集将进行压裂改造的页岩气水平井测井资料和井轨迹资料;

b、选取某一地层分层界面作为校正构造基面;

c、建立选取井深x米的测井参数与距离校正构造基面真厚度H的相关性公式:

H=AX+BY+CZ+…+a

其中:A、B、C、…、a为常数,X、Y、Z、…为选取测井参数;

所述相关性公式具体是:

H=-0.0755998529646553×GR+0.484034467565719×AC+0.324413040357806×CNL+22.5851335619178×DEN-0.023402684641622×RXO-0.0965828978484509×RT-67.4960180934846

其中:GR为自然伽玛,单位API;

AC为补偿声波,单位μs/ft;

CNL为补偿中子,单位p.u;

DEN为补偿密度,单位g/cm3;

RXO为浅电阻率,单位Ω·m;

RT为深电阻率,单位Ω·m;

d、根据求出的H,删除其中的异常数值,最终得到沿井轨迹向下投影的构造基面数值F:

F=f(x)=H+TVD

其中:TVD是对应井深x米的垂深数值;

根据求出的构造基面数值F,对页岩气水平井储层构造进行校正。

2.根据权利要求1所述的一种利用测井曲线对构造进行精细校正的方法,其特征在于:所述的测井资料和井轨迹资料包括斜深、垂深、方位和井斜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国石油集团川庆钻探工程有限公司,未经中国石油集团川庆钻探工程有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710313306.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top