[发明专利]一种磁畴偏转模型建立方法及装置有效
申请号: | 201710313713.7 | 申请日: | 2017-05-05 |
公开(公告)号: | CN107037383B | 公开(公告)日: | 2019-08-09 |
发明(设计)人: | 王亚文;谷爱昱;严柏平;江伟 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | G01R33/18 | 分类号: | G01R33/18 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张春水;唐京桥 |
地址: | 510062 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 偏转 模型 建立 方法 装置 | ||
1.一种磁畴偏转模型建立方法,其特征在于,包括:
S1:在预定的应力和磁场作用下,获取超磁致伸缩材料内单畴颗粒的预定的自由能公式,其中,预定的自由能公式为:
其中,H为磁场;Ms为饱和磁化强度;K1和K2为立方晶磁各向异性常数;σ为应力张量;λ100和λ111为磁致伸缩参数;为场方向;为应力方向,为磁化方向;μ0为磁导率;
S2:通过预定的自由能公式获取磁化能公式、磁晶各向异性能公式、应力各向异性能公式,通过所述磁化能公式、所述磁晶各向异性能公式、所述应力各向异性能公式,获取预定的磁化强度矢量方向上的磁化强度公式:
其中,σ为预定的应力;H为预定的磁场;为预定的磁化强度矢量;为磁化方向;Efield为磁化能;Ean为磁晶各向异性能;Eσ为应力各向异性能;K为归一化常数;ω为电位分布参数;
S3:对所述磁化强度公式分别进行对应力和磁场的偏导运算,获取对应的偏导函数;
S4:将所述偏导函数代入预定的磁化密度增量公式中,获取预定的磁场增量值,获取磁化密度增量的计算结果。
2.根据权利要求1所述的磁畴偏转模型建立方法,其特征在于,预定的磁化密度增量公式为:
其中,ΔB,ΔH,Δσ分别为磁化密度增量,磁场增量和应力增量。
3.根据权利要求2所述的磁畴偏转模型建立方法,其特征在于,磁化密度等于磁化强度与相对磁导率的乘积。
4.一种磁畴偏转模型建立装置,其特征在于,包括:
第一获取单元,用于在预定的应力和磁场作用下,获取超磁致伸缩材料内单畴颗粒的预定的自由能公式;
其中,预定的自由能公式为:
其中,H为磁场;Ms为饱和磁化强度;K1和K2为立方晶磁各向异性常数;σ为应力张量;λ100和λ111为磁致伸缩参数;为场方向;为应力方向,为磁化方向;μ0为磁导率;
第二获取单元,用于通过预定的自由能公式获取预定的方向上的磁化强度公式;
所述第二获取单元具体包括:
获取子单元,具体用于通过预定的自由能公式获取磁化能公式、磁晶各向异性能公式、应力各向异性能公式,通过所述磁化能公式、所述磁晶各向异性能公式、所述应力各向异性能公式,获取预定的磁化强度矢量方向上的磁化强度公式:
其中,σ为预定的应力;H为预定的磁场;为预定的磁化强度矢量;为磁化方向;Efield为磁化能;Ean为磁晶各向异性能;Eσ为应力各向异性能;K为归一化常数;ω为电位分布参数;
偏导单元,用于对所述磁化强度公式分别进行对应力和磁场的偏导运算,获取对应的偏导函数;
第三获取单元,用于将所述偏导函数代入预定的磁化密度增量公式中,获取预定的磁场增量值,获取磁化密度增量的计算结果。
5.根据权利要求4所述的磁畴偏转模型建立装置,其特征在于,预定的磁化密度增量公式为:
其中,ΔB,ΔH,Δσ分别为磁化密度增量,磁场增量和应力增量。
6.根据权利要求5所述的磁畴偏转模型建立装置,其特征在于,磁化密度等于磁化强度与相对磁导率的乘积。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东工业大学,未经广东工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710313713.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:金属罐(三片式‑双头螺纹)
- 下一篇:包装盒(桃)